タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N
研究機関における実験では、信頼性の高い結果を得るために、高品質な材料が不可欠です。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が実験結果を大きく左右します。タンタル(Ta)ターゲットは、高耐熱性、優れた耐蝕性、良好な導電性を持ち、実験の効率化と精度の向上に貢献します。当社のタンタル(Ta)ターゲットは、高品質な材料と高度な製造技術により、研究開発を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・PVD/CVDプロセスを用いた薄膜形成実験 ・高エネルギー・スパッタリング実験 ・半導体デバイスの研究開発 ・耐食性材料の研究 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の形成 ・実験結果の信頼性向上 ・実験効率の向上 ・研究開発の加速
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基本情報
【特長】 ・高純度(99.999％ 5N) ・均一結晶粒構造 ・複数の形状に加工可能 ・高耐熱性、優れた耐蝕性 ・高密度(16.6g/cm3) 【当社の強み】 当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場と緊密な協力関係を築いております。この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスを提供し、お客様の研究開発を支援します。また、W(タングステン)、Hf(ハフニウム)、Zr(ジルコニウム)、Co(コバルト)、V(バナジウム)、Mo(モリブデン)など、様々な材質のターゲット材も提供可能です。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体とマイクロエレクトロニクス業界 ■光学・光電子分野 ■航空宇宙と高温コーティング ■医療設備 ■腐食防止コーティング ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、スパッタリングターゲット、ボンデイングサービスにおいて 世界トップレベルの技術をもつ日系中国現地法人工場を長年の経験を持つエンジニアを共に 継承した蘇州テクノテック光電材料有限公司と緊密な協力関係を築いております。 この連携により高品質でコストに優れた製品・サービスとともに お客様ニーズを的確に捉え、最適で最高レベルの製品・サービスをご提供します。 当社はお客様事業の発展を第一に考え、創造性と技術力を最大限に活かしお客様へ新たな価値をご提供していきます。
