【事業紹介】 ○フォトマスク　資材・設備 →各種感光材料 →各種感光材用ケミカル →自動現像機、他各種 ○フォトマスク　設計・加工 →フォトマスク表面保護(ハードコート)・帯電防止加工 →フォトマスク設計・製造(フィルム・エマルジョン・クロム） →各種データ変換サービス(DXF・GERBER・GDS・ODB++等) ○プリント基板　資材・設備 →搬送フィルム →アルミシート →レーザー加工機、他各種 ○レーザー加工・電子部品の分析・解析・コンサルティングサービス →電子部品の不良解析 →各種物性試験・分析試験 →各種測定試験・環境試験 →BGA・CSP実装及び半導体デバイスの非破壊試験 ○部品実装資材・設備 →SMT実装をバックアップする各種資材 →IRリワークシステム →ハイブリッドリワークシステム →高性能はんだこて、他 ○フォトマスク・各種プリント基板・メタル製品 ○その他資材 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【その他の掲載内容（一部）】 ■espax電解水のプリント配線基板生産での利用実績と留意事項 ■酸化膜除去の様子 ■酸性電解水処理による銅の表面状態 ■前処理に関するユーザー評価 ■SAPのDFRラミネート前処理対応の評価試験 ■DFR現像工程の水洗部でのScum除去効果 ■現像工程の水洗部での裾引き改善効果 ■現像工程での誤解について ■導入効果実績のまとめ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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