当社では、フッ素材料を使用した真空蒸着法とスプレー法の 受託加工サービスを行っております。 金型1点、ガラス1枚の試作から量産まで対応でき、 スプレー法はご指定の材料での加工も承ります。 【採用事例】 ＜真空蒸着法＞ ◎大手電気機器メーカー ◎金型製造メーカー ◎大手事務機器メーカー　など ＜スプレー法＞ ◎ガラス加工メーカー ◎ディスプレーメーカー ◎フォトマスクメーカー　など ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

【採用実績と効果】 ［スプレー法］ ○スキャナ用コンタクトガラス →汚れ付着防止、メンテナンスの向上 ○光学部品（レンズ、カバーガラスなど） →撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 ○タッチパネル →汚れ（耐指紋）付着防止 ○はんだ印刷用メタルマスク →印刷性向上、メンテナンスの軽減 ［真空蒸着法］ ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具（凹版など） →転写性向上（離型剤レス） ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【NANOS材料】 ■初期接触角　　115°(水に対して)、68°(n-ヘキサデカンに対して) ■耐摩耗性係数　NB03 シリーズ:＞3、000回、NB05 シリーズ:＞5、000回 ■耐指紋性　　　NB03 シリーズ:有り、NB05 シリーズ:有り ■動摩擦係数　　NB03 シリーズ:0.03、NB05 シリーズ:0.03 ■熱処理条件 　・ソーダライムガラス　NB03 シリーズ：50 ℃ Dry 1hr、NB05 シリーズ：80 ℃ Dry 30min 　・アルミノシリケートガラス　NB03 シリーズ：50 ℃ 80%R.H. 1hr、NB05 シリーズ：80 ℃ Dry 30min ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

【採用実績】 ■インクジェットヘッド 　→印刷性向上 ■光学部品用金型 　→離型性向上 ■スタンパ金型 　→離型性向上、タクトタイムの短縮 ■ナノインプリント用金型 　→離型性向上、微細形状への追従性 ■転写プロセス用治具（凹版など） 　→転写性向上（離型剤レス） ■フォトマスク 　→レジストの付着防止 ■AFM、STM用プローブ 　→異物の付着防止 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

【採用実績と効果】 ［スプレー法］ ○スキャナ用コンタクトガラス →汚れ付着防止、メンテナンスの向上 ○光学部品（レンズ、カバーガラスなど） →撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 ○タッチパネル →汚れ（耐指紋）付着防止 ○はんだ印刷用メタルマスク →印刷性向上、メンテナンスの軽減 ［真空蒸着法］ ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具（凹版など） →転写性向上（離型剤レス） ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【採用実績と効果】 ［スプレー法］ ○スキャナ用コンタクトガラス →汚れ付着防止、メンテナンスの向上 ○光学部品（レンズ、カバーガラスなど） →撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 ○タッチパネル →汚れ（耐指紋）付着防止 ○はんだ印刷用メタルマスク →印刷性向上、メンテナンスの軽減 ［真空蒸着法］ ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具（凹版など） →転写性向上（離型剤レス） ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【採用実績と効果】 ［スプレー法］ ○スキャナ用コンタクトガラス →汚れ付着防止、メンテナンスの向上 ○光学部品（レンズ、カバーガラスなど） →撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 ○タッチパネル →汚れ（耐指紋）付着防止 ○はんだ印刷用メタルマスク →印刷性向上、メンテナンスの軽減 ［真空蒸着法］ ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具（凹版など） →転写性向上（離型剤レス） ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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【採用実績と効果】 ［スプレー法］ ○スキャナ用コンタクトガラス →汚れ付着防止、メンテナンスの向上 ○光学部品（レンズ、カバーガラスなど） →撥水性付与、汚れ（耐指紋）付着防止 ○タッチパネル →汚れ（耐指紋）付着防止 ○はんだ印刷用メタルマスク →印刷性向上、メンテナンスの軽減 ［真空蒸着法］ ○インクジェットヘッド →印刷性向上 ○光学部品用金型 →離型性向上 ○スタンパ金型 →離型性向上、タクトタイムの短縮 ○ナノインプリント用金型 →離型性向上、微細形状への追従性が高い ○転写プロセス用治具（凹版など） →転写性向上（離型剤レス） ○フォトマスク →レジストの付着防止 ○AFM、STM用プローブ →異物の付着防止 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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当社は、特殊なフッ素系高分子を薄膜化する技術「NANOS」のほか、 スプレー処理、蒸着処理によるフッ素コートを行っています。 ご希望に合わせて様々なご提案が可能ですので、お気軽にお問い合わせください。