共同研究による新しい溶射装置・粉体供給機の開発による、新規機能性皮膜の開発

有限会社エスエスシーは、HVAF溶射をメインとする溶射受託加工専門の会社です。 HVAFは灯油と圧縮空気の燃焼ガスが作動ガスです。燃焼温度が低いので、耐摩耗性を主目的としたサーメット(WC系)材料を溶射するのであれば、HVOFでは通常発生するW2Cなどの副生成物が発生しません。 HVAFの温度をコールドスプレーやウォームスプレーの温度領域まで下げることが可能であれば、工業用ガスを使用しないことから、運転コストを低減できます。しかし、液体燃料は気体燃料に比べて正常な燃焼を維持する範囲が狭く、既存の溶射装置では困難です。 上記問題を解決するため、大島商船高専との共同研究により「低温溶射用HVAF」を開発しました。作動ガス温度は450～800℃の間で調整可能です。工業用ガスをしませんので、コスト面での優位性があります。 また、溶射は乾式における数μm以下の微粉体安定供給は困難という問題があります。この問題を解決するため、大分高専とも共同研究を行っており、実用化はまだですが、プロトタイプは完成しており、社内の受託加工には問題なく試用できる段階に達しています。