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株式会社フォトンデザイン

住所東京都北区神谷2-17-1
電話03-5249-5705
  • 公式サイト
最終更新日:2016/03/01
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測定装置『SemiScope PLIS-TEC』

拡張欠陥も測定可能!スペクトル線分析ができるSemiScope

『SemiScope PLIS-TEC』は、PLによる結晶欠陥の研究において 画期的な測定装置です。 PLイメージング画像で選択した線分において、その線分を1000点に分割した 各スペクトルを同時に測定することができます。 また、線分をスペクトル化するため、基底面転移のような 位置の特定が難しい欠陥でも、正確にスペクトルを測定することができます。 【特長】 ■スペクトル線分析対応 ■結晶欠陥の研究に ■励起光の密度も、通常のPLスペクトル測定に比べ3桁程度低い ■拡張欠陥においても測定可能 ■位置の特定が難しい欠陥でも、正確にスペクトルを測定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 半導体検査/試験装置
  • その他計測・記録・測定器

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SiC半導体評価装置「SemiScope」

フォトルミネッセンス(PL)イメージング法を用いたSiC半導体評価装置

「SemiScope」は、1μm以下の分解能でフォトルミネッセンス(PL)画像を測定することができるPLイメージング装置です。 試料を移動させながらイメージング測定を行うタイリング機能を用いることで、約33億画素の解像度で6インチウェハ全面のPL画像を得ることができます。 SiCウェハの結晶欠陥を可視化。非接触・非破壊検査がPLイメージング法で短時間測定可能です。 【特徴】 ○SiC半導体評価装置 ○SiCウェハの結晶欠陥を可視化 ○非接触、非破壊検査 ○PLイメージング法のため短時間測定が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

  • 半導体検査/試験装置

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