IPCの製品・サービス一覧

当社では、外枠が金属ボックスまたはフランジタイプの『FFUユニット』 を取り扱っております。 高風量と低圧損特性を備え、50％以上の波面を持つことで下見板式フィルター よりも下見板式高風量フィルターの代わりに使用され、寿命も延ばします。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【Fan Size(標準型)】 ■575mm×575mm ■605mm×605mm ■1175mm×575mm ■1215mm×605mm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他クリーンルーム用機器・設備

当社では、『クリーンブース』を取り扱っております。 様々なクリーングレードとスペースマッチングを備えたシンプルな クリーンルームを構築するのに早く、便利であり仕様ニーズに応じて、 設計・構造ができます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【用途】 ■半導体・FPD製造関連 ■特殊材料製造関連 ■医療・科学設備関連 ■食品製造関連 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• クリーンブース

『オーブンチャンバー』は、産業用プロセスに必要な熱を供給し、 大気中または制御された雰囲気中で運転することができる製品です。 正確で精密な温度制御を行い、生産環境に耐えられる構造のため クリーン度に適用しています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【用途】 ■半導体・FPD製造関連 ■特殊材料製造関連 ■医療・化学設備関連 ​■電化製品関連 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『チャンバーユニット』は、産業プロセスにおける精密な温度制御と 温度均一性の要求に応える加熱装置です。 産業用プロセスに必要な熱を供給し、大気中または制御された 雰囲気中で運転することができます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【用途】 ■半導体・FPD製造関連 ■特殊材料製造関連 ■医療・化学設備関連 ​■電化製品関連 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 加熱装置

『超音波洗浄機』は、水槽内の超音波装置(3台)でグラビアロール、 アニロックスロール、コーターロールの洗浄を1台でできる製品です。 (G4〜G6まで)セル深部まで洗浄することができ、ロールの寿命化に 貢献します。また、塗布量の安定化も図れます。 FPD装置関連、半導体装置関連、食品装置関連で使用する 部品の洗浄も可能です。 【用途】 ■FPD製造装置関連 ■半導体製造装置関連 ■食品製造装置関連 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 超音波洗浄機

『ガラス搬送装置』は、液晶パネルを搬送する装置です。 液晶工程にアレイから、カラーフィルタ、セル、モジュール工程まで いくつかの製造、洗浄工程があります。 設計から製作、出荷まで一貫作業が可能で、メンテしやすい構造設計、 軽量かつ丈夫な構造となっております。 【特長】 ■台湾製で品質保証可能 ■短納期 ■オーダーメイド、モジュラーデザイン ■静かな運転音 ■クリーンルームに適用 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他搬送機械

『G6乾燥機』は、LCD基板上に印刷された塗膜を基板裏面(反塗布面側) により加熱することで、ガラス基板を加熱乾燥させる製品です。 乾燥時に起きる、ピンムラ対策として、Φ1mmのワイヤーで 基板受け渡しを行います。 また、ワイヤー位置は、ステッピングモータを使用(8ユニット)パターン外 の位置に設定を行うことで、パターン内の乾燥ムラを防止します。 【仕様】 ■温度性能：室温〜200度(プレート上) ■​温度精度：表面温度±3度以内 ■方式：マイカヒーター・9割制御 ■ヒーター出力：2200W×9回路　19.8Kw ■電力：三相200V　50/60HZ ​■圧縮空気：0.5Mpa　100L/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 乾燥機器

『IR硬化炉』は、フレキソ印刷機にて塗布された基板上の配向膜、 または絶縁膜をIRヒーターを上下に搭載し、焼成・硬化処理 冷却バッファーを行う装置です。 独立した多段炉なため、各段を自由に温度設定が出来ます。 主な用途先は半導体製造装置関連、FPD製造装置関連です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温〜350度(ガラス表面温度) ​■温度精度：表面温度±5度以内 ■方式：マイカヒーター ■ヒーター出力：AC200V/50Hz　3φ　10KVA ​■熱量：10.78mj ​■圧縮空気：0.5Mpa　50L/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 焼却炉・焼却装置

『4段乾燥炉チャンバータイプ』は、FPD基板上に印刷された塗膜を 基盤表面に(反塗布面側)より、加熱することでガラス基板を加熱 乾燥させる製品です。 基盤受渡しはピン昇降を使用、サーボモーター制御で3段階の 高さ調整が可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温〜150度(ガラス表面温度) ​■温度精度：表面温度±3度以内 ■方式：マイカヒーター・分割制御 ■ヒーター出力：AC220V　1φ　3kw ■電力：AC/380/50Hz　3φ　20KVA ​■圧縮空気：0.5Mpa　100L/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 乾燥機器

『多段乾燥機』は、LCD基板上に印刷された塗膜を基板裏面(反塗布面側) により加熱することで、ガラス基板を加熱乾燥させる製品です。 冷却バッファー基盤供給と搬出を行うローダー・アンローダー移載用 ロボットにより構成されています。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【仕様】 ■温度性能：室温～150度(ガラス表面温度) ■温度精度：表面温度±5度以内 ■方式：マイカヒーター・分割制御 ■ヒーター出力：AC200V　1φ　1.5kw ■熱量：5.39mj ■圧縮空気：0.5Mpa　100L/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 乾燥機器