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『Pico』は、ポンプタイプのハンド除菌ジェルです。 セカンドスキンのような保護膜を形成し、手指全体に行き渡る ジェルならではの効果と速乾性です。 また、ウィルスのバリア機能を攻撃するために、アルコール・ 次亜塩素酸ナトリウム水溶液を配合しており、オフィスの デスクなどでご使用いただけます。 【特長】 ■ポンプタイプ ■保湿&除菌 ■ジェルならではの効果と速乾性 ■日本製 ■リモネンのやさしいオレンジの香り ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社は、除菌スプレー『Femto』を取り扱っています。 手すり・ドアノブ・椅子・パソコン等、菌が付着するすべての物に 使用可能。強アルカリ性なので、菌を寄せつけません。 また、界面活性剤不使用で、水の力で汚れと除菌、消臭効果が ございます。 【特長】 ■水の力で汚れと除菌、消臭効果 ■界面活性剤不使用 ■菌が付着するすべての物に使用可能 ■強アルカリ性なので、菌を寄せつけない ■日本製 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『WVC-750』は、半導体電子部品用に用いられるウエーハ基板を クランプする為に開発した水封式真空発生装置です。 水冷循環チラーと一体化して使用可能なほか、低騒音で振動が少なく、 長時間安定真空を実現しました。 水循環冷却により水の消費量を節約でき、水蒸気や水滴を含んだ気体の バキュームに適しています。 【特長】 ■水蒸気や水滴を含んだ気体のバキュームに好適 ■低騒音で振動が少なく長時間安定真空実現 ■水循環冷却による水の消費量節約 ■水冷循環チラーと一体化して使用可能 ■強いバキューム力(5.3Pa×10^3を達成) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当社では、『ラッピング・ポリッシング機』を多数取り扱っております。 ダイヤモンドスラリー仕様の「NANOTECH-380OD」をはじめ、 GC/WAスラリー仕様の「NANO-3LB-2M」などをラインアップ。 その他に、研磨剤、治具、キャリア、砥粒ポンプもご用意しております。 【ラインアップ(抜粋)】 ■NANOTECH-380OD ■NSL-115K ■NANOTECH-380-FODAL ■NANOTECH-380-FDAR ■NANO-450-FODAb ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当製品は、研削液を砥石の中から滴入し被削材に充分な研削液の供給を実現した GaN/Al2O3専用高脆材研削砥石です。 従来から課題でありました研削液の供給を砥石の中から滴入することにより、 研削スピードの効率化と目詰まり防止効果を高めました。 温度変化による研削性能のバラツキや砥石の局部温度上昇による早期炭化を防ぎ、 安定した研削加工が可能になります。 【特長】 ■砥石の中から研削液供給実現 ■エッジチッピングの大幅低減 ■集中度180 研削効率大幅U ■ビトリファイドボンディング ■ポア効果による目詰まり解消 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
当製品は、凍結、ゴミ詰まりのないコイル式熱交換器を採用した屋内型の 水冷式冷水循環チラーです。 圧送ポンプを内蔵しており、装置との接続配管と電気の接続ですぐに 使用可能なほか、二重管式凝縮器を採用し、ゴミ詰まりの少ない構造です。 また、凝縮器洗浄用ノズル付きで、洗浄ユニットで薬品洗浄できます。 【特長】 ■凍結、ゴミ詰まりのないコイル式熱交換器を採用 ■圧送ポンプ内蔵で装置との接続配管と電気の接続ですぐ使用可能 ■二重管式凝縮器を採用し、ゴミ詰まりの少ない構造 ■洗浄ユニットで薬品洗浄できる ■凝縮器の洗浄、冷却水量調整に便利な冷却水出入り口バルブ付き ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『炭酸ガス ドライステーション』は、洗浄目的・基板材質に合わせて、 ノズル番手選択する事による最適なパフォーマンスを提供する洗浄機です。 ノズル番手を変更することにより、CO2粒径の可変やCO2密度の可変、 CO2噴出速度の可変を実現。 また、N2パージノズルを採用することにより、加工可能時間まで1/6以下に 短縮が可能です。 【特長】 ■スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップ ■各液体不活性GASの同時噴射にて静電気破壊を防止 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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