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『HUVSシリーズ』は、高圧縮比（圧縮比1×10の11乗）のターボ分子ポンプ を採用したターボ分子ポンプ排気装置です。排気速度250L/秒と77L/秒の 2種類をラインナップ。フルレンジ真空計を標準で搭載。 ターボ分子ポンプ・ロータリーポンプ同時起動とロータリーポンプ単独起動 の切替機能も装備しております。 【特長】 ■ラインナップは排気速度250L/secと77L/secの2機種をご用意 ■高圧縮比（1×10の11乗のターボ分子ポンプを採用） ■ターボ分子ポンプ・ロータリーポンプ同時起動と ロータリーポンプ単独起動の切替機能付き ■フルレンジ真空計を標準搭載（表示はTMPコントーラ） ■任意メーカの排気ポンプを選定可能 ■停電時の逆流防止対策でフォアバルブは自動リークバルブを搭載 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
『HMP-100』は、排気系により＜10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採用することにより 1pA以下の電気測定が可能です。 【特長】 ■高真空仕様 排気系により＜10^-4Paでの使用可能 ■加熱温度 最大500℃対応 10mm形状のサンプル加熱対応 ■低電流測定 TRIAXコネクタを採用することにより1pA以下の電気測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW ※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
超高真空対応（ベアリング軸受け）の「トランスファーロッド」をはじめ、 コンパクト設計で非磁性構造の「ベローズ式回転導入器」や、シャッタ機構 に適した「磁気結合型回転導入器」をご用意しております。 【ラインアップ】 ■トランスファロッド「HFTR-300/450/650」 ・超高真空対応（ベアリング軸受け） ・回転防止機構/遠隔操作機構（オプション） ■ベローズ式回転導入器「HBR-34N」 ・コンパクト設計（外径45／全長126.5mm） ・非磁性構造（SUS/AI） ■磁気結合型回転導入器「HMR-34N」 ・コンパクト設計（外径35/全長100mm）シャッタ機構に ・オプションによりモータ直結可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『HMS2-300』は、フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能な ため、高温化での成膜が可能な2インチ2元スパッタリング装置です。真空 及びガス置換雰囲気下での成膜に対応しています。2インチマグネトロン式 スパッタカソードを具備しており、最大3元まで増設可能です。オプション でL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応しています。 【特長】 ■フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応 ■2インチマグネトロン式スパッタカソードを具備 ※最大3元まで増設可能 ■オプションでL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応 ■設置スペースはW535×D1000×H1800mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『TBB-6000』は、タッチパネルによる手動操作、インタフェースからの 遠隔操作に対応したコントローラです。位置決めに関する基本機能の他、 拡張性を有しているのでご要望よりカスタマイズ、OEM製作が可能です。 【特長】 ■5相ステッピングモーター用 ■マイクロステップ ■モータードライバ内蔵 ■19インチラックに収納可能 【カスタマイズ・システムアップ対応例】 ▼軸拡張：12軸、18軸、24軸 ▼ドライバ変更：電磁ブレーキ付き、高トルク大型モータ用 ▼自動動作：外部センサによる動作開始/停止 ▼安全機構：インタロック・安全装置の組み込み ▼真空内での直動・回転ステージ ▼高温・低温環境の位置決め装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
多様なサンプルに対応しており、最大□10mmのサンプルを計測可能。 多段式輻射シールド及び三段式真空容器構造によりサンプル交換が容易です。 スイッチ一つで室温から極低温まで、温度制御できます。（温度調整には 温度センサー及び温度コントローラ〔オプション〕が必要になります。） 【仕様（抜粋）】 ■温度可変サンプルステージ：□10mm 無酸素銅ステージ ネジ型8系統端子台 ■冷却機構（空冷式2段式クライオスタッド） ・1段ステージ：3.0W @60K ・2段ステージ：0.1W @4.2K ■温度制御可能範囲：300K～4.2K ■真空容器：三段式真空容器 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
40mmギャップで0.5Tの磁界を発生させることができる軽量・コンパクトな 磁界発生装置を採用。電気抵抗・ホール効果・熱電特性の温度依存測定を 自動制御し、電気抵抗率・ホール係数・キャリア密度等演算、データを エクセルに抽出します。また各測定データはリアルタイムで数値とグラフ により表示します。 【特長】 ■極低温（4.2K）～常温（300K）の広範囲の温度測定 ■サンプルセットから4.2Kまで約2.5時間のハイパワー冷凍機 ■冷凍機・温度制御・バイポーラ電源を外部制御 ■電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力：E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入：SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式：カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー：φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『高真空対応ゲートバルブ』は、高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤 フリーのメカニズムで、コンパクトな設計です。低振動、高品質で多種を ラインアップしており、リーズナブルな価格でご提供いたします。 【仕様（抜粋）】 ■リーク量 ・本体（メタルシール）：2.7×10^-11 Pa・m3/sec ・本体（バイトンシール）：2.7×10^-10 Pa・m3/sec ・ゲート部：1・3×10^-9 PA・m3/sec ■使用真空領域：大気圧～2.7×10^-11 Pa・m3/sec ■圧空：5Kgf/cm2 ■取付方向：自由 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『HVTB-1100』は、アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化 測定が可能な熱天秤装置です。サンプル加熱装置は開閉式管状炉により 最大1100℃まで加熱（側面石英窓から加熱中に目視）が可能。 真空排気ユニットは油回転真空ポンプ及びターボ分子ポンプ構成装置とは 別置きであるため他の装置に接続して真空排気することができます。 【特長】 ■ターボ分子ポンプによる真空排気でチャンバ内はクリーン排気、高真空到達 ■加熱温度は最大1100℃、常用1000℃ ■観測室上部ポートよりサンプルるつぼ内の金属材料に直接ガス導入可能 ■真空圧力調整範囲は10～1000Pa ■天秤周囲の水冷ジャケットにより温度ドリフトしにくい構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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