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高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

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最終更新日:2024年12月09日

株式会社ハイブリッジ 東京営業所
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高真空仕様の加熱マイクロプローバ!加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します!

『HMP-100』は、排気系により<10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採用することにより 1pA以下の電気測定が可能です。 【特長】 ■高真空仕様  排気系により<10^-4Paでの使用可能 ■加熱温度  最大500℃対応  10mm形状のサンプル加熱対応 ■低電流測定  TRIAXコネクタを採用することにより1pA以下の電気測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

    加熱装置
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高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

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基本情報

【仕様(抜粋)】 <試料評価室> ■真空チャンバ:φ114×h84mm SUS304/内面#400/外面#400+電解研磨 ■フランジ:コンフラット規格 ■ベーキング:150℃対応 <測定部> ■プローブ数:4探針プローブ/タングステン針 ■測定最少電流:1pA以下(常温) ■対向プローブ間距離:417mm <加熱機構部> ■加熱温度:最大500℃ ■加熱機構制御:DC電源外部制御式PIDコントローラ ■温度センサ:K熱電対 <装置本体> ■装置架台  ・ゴム足付きベースプレート 310×310×25hmm(ゴム足含む)  ・プローバステージ用フレーム:アルミフレーム構造 ■主排気用バルブ:ICF70手動アングルバルブ+ICF70/NW25変換ニップル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』

高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』

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