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フォトマスク
透明な基材上に光の透過部と遮光部とでパターン形成しており、主にフォトリソグラフィと呼ばれる露光転写技術に用いられます。当社では主に「クロムガラスマスク」「エマルジョンガラスマスク」「フィルムマスク」の3種をラインアップしております。