アズサイエンスの製品・サービス一覧

日本電子株式会社 BS series 研究開発用 電子ビーム蒸着装置は、研究開発や少量生産に適した蒸着装置です。 様々なオプション機器が搭載可能で、チャンバー形状やロードロック等、ご要望に合わせて制作します。 〇特長 ・蒸着源は、電子ビーム蒸着源（電子銃）、ボンバード蒸着源、抵抗加熱蒸着源を選択でき、任意に組み合わせて複数台搭載することが可能。 ・電子銃＋反射電子トラップ、またはボンバード蒸着減により、低温・低ダメージ蒸着が可能。特にレジストを用いるリフトオフ蒸着に有効。 ・アルミの安定蒸着ができ、繰り返し使用できるライナーもご提供。 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。 従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことにより ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。 〇特長 ・ライナー大容量化。 ・ハイレート化 ・大型装置対応。 ・厚膜対応。赤外用途への対応も可能 ・レート安定化 ・低ダメージ・低欠陥・低吸収 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 BS-60310BDS ボンバード蒸着源 蒸着材料を充填したライナーの裏面に、電子ビームを照射し、電子衝撃 (ボンバード) によりライナーを加熱します。蒸着材料には直接電子ビームを当てません。 〇特長 ・間接加熱方式 ・成膜中の反射電子ダメージとX線ダメージなし ・スプラッシュが抑制され、低欠陥成膜可能 ・分解・組成ずれなし ・光学吸収が少ない。 ・安定成膜可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 BS/JEBG/EBG series 電子銃は、光学薄膜や電極膜など各種薄膜形成に利用される電子ビーム蒸着用電子銃(偏向型)です。 〇特長 ・蒸発材料に電子ビームを直接照射し加熱するため熱効率が良く、高融点金属を始め、酸化物や化合物、昇華性物質など様々な材料を蒸発させる事ができます。 ・水冷銅るつぼ内(※)の蒸発材料を直接加熱するため、抵抗加熱式や誘導加熱式のようにボートやるつぼとの反応がありません。 ※ハースライナーを使用する場合もあります。 ・高速で出力制御できるため、精密な膜厚制御が可能です。 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 BS-80020CPPS プラズマソースは、プラズマによる基板や基材の温度上昇を抑え、基板/基材へのイオン照射エネルギーを高めた低温プロセス用のプラズマソースです。 プラスチックや有機フィルムへの成膜用途（プラズマアシスト蒸着）や表面改質用途に適しています。 〇特長 ・無加熱成膜でも密着性が良い ・填密度の高い薄膜が形成 ・既設の真空チャンバーへ後付けも可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。 〇特長 ・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化 ・反応性蒸着可能 ・大面積へハイレートで成膜が可能 ・様々なレイアウトの真空装置へ搭載することが可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

日本電子株式会社 水晶振動子式膜厚コントローラ/モニターに接続して、真空蒸着時の膜厚や蒸着レートを計測/制御するための多点センサーです。 真空チャンバー内長さ、センサーヘッドタイプ、水晶振動子（クリスタル）枚数を、選択して組み合わせることができます。 〇特長 ・検出孔が定位置 ・晶振動子（クリスタル）が6枚または12枚装着可能 ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。