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株式会社ニッペコ 本社

住所東京都中央区八丁堀1-9-8 八重洲通ハタビル4F
電話03-5542-2483
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  • 公式サイト
最終更新日:2025/09/01
株式会社ニッペコロゴ
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真空用グリース

真空用グリース

真空環境下で活躍しているグリースです。

極高真空用フッ素グリス(グリース)『ロゲネストラムダZLVP』

最高レベルの長寿命性。極高真空下(10-8Pa以下 )にてアウトガスが発生しにくいグリス(グリース)です。

【特徴】 • あらゆるグリス(グリース)の中で、最高レベルの長寿命性を有します • 低発塵グリス(グリース)としても活用可能です • 市販グリス(グリース)で、最高の蒸気圧特性を持つフッ素グリス(グリース)です • 酸化安定性、耐薬品性、電気絶縁性にも優れています • RoHS指令に対応製品

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前工程の歩留まり改善・コンタミ対策の真空・耐熱用グリス・グリース

LOGENEST LAMBDA AEP-4は真空かつ150℃以上の高温環境下でも汚染リスクやメンテナンス頻度の低減が期待できます

「LOGENEST LAMBDA AEP-4」は 下記のような特徴があり、コンタミネーション改善・対策(不純物や異物の混入防止)に取り組まれている方や 半導体関連装置など精密機械をメンテナンスしている方へ推奨しております ■ 特殊フィルム製造の前工程(成膜、エッチング等)の搬送部(ベアリング等)やシール部(Oリング等)に最適なグリス(グリース)です ■ 特徴は、従来のフッ素グリースより劣化を抑え、ロングライフが期待されます 【用途】 各種下記前工程の製造装置などの ベアリング Oリング ・特殊フィルム製造装置 ・プリント基板製造機器 ・半導体製造装置

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高真空・耐熱グリースLOGENEST LAMBDA TKM-03

【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリス(グリース) 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』

高温環境下にて、優れた耐熱性能を示します。 また、真空環境下でも、優れた低アウトガス性能を示します。 実績ございます。 詳細情報はお気軽にお問い合わせください。

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【コンタミ対策】アウトガスが発生しにくい高真空・耐熱用グリース

歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化!半導体製造装置内のコンタミネーション(金属イオンやパーティクルなどの不純物)を低減!

『LOGENEST LAMBDA TKM-03』は、 半導体製造装置などの高真空と耐熱性を有する環境下でも低アウトガスに寄与する特殊グリス(グリース)です。 高真空(high vacuum)10-1Pa~10-5Pa~超高真空(ultra high vacuum)10-5Pa~10-8Pa向けのグリス(グリース)として開発いたしました。 【特長】 ■歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化したグリス(グリース) ■アウトガスが発生しにくい高真空・耐熱用グリースで半導体製造装置内の  コンタミネーションを低減(防止・対策) ■TML(質量損失比)1.0%未満を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ■CVCM(再凝縮物質量比) 0.1%以下を大幅に下回る(ASTM E595準拠) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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【高耐久】高温環境下でも摩耗を防ぐ軸受ベアリング用グリース

『ロゲネストラムダ NS No.2』は 200℃の軸受寿命試験で、従来品に比べ約2.5倍の耐久時間を有しました。(当社調べ)

高温環境用に開発したフッ素グリース(グリス)です。 各種実績ございますので、お気軽にお問い合わせください。

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