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株式会社Gaianixx

住所東京都文京区本郷7-3-1 東京大学 南研究棟 アントプレーナーラボ
電話080-8846-2254
  • 公式サイト
最終更新日:2024/12/04
株式会社Gaianixxロゴ
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白金単結晶薄膜付きシリコンウェハ

単結晶金属薄膜により特性が向上します

Gaianixx独自の多能性中間膜により、シリコン基板上に高品質な白金薄膜をエピタキシャル成長させ、(100) 単一配向の単結晶薄膜を実現しました。単結晶体は多結晶体と比較して、粒界がないことで電気的な欠陥が少なくなるため、電気抵抗が低く電気伝導性が高くなります。そのため半導体や電子デバイスの性能向上に寄与することが期待されます。白金薄膜は各種デバイスの下部電極として用いられるほか、温度センサなどにも応用されています。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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マルテンサイトエピタキシーPZT単結晶圧電薄膜ウェハについて

優れた圧電特性を達成!用途に応じた仕様をご用意いたします

「マルテンサイトエピタキシーPZT単結晶圧電薄膜ウェハ」について ご紹介いたします。 独自の多能性中間膜により、高品質な単結晶薄膜を実現し、一般的な 圧電薄膜と比較して、優れた圧電特性を達成。 また、ポーリング処理がなくとも分極を保持する自発圧電ができ、 用途に応じた仕様をご用意することが可能です。 【ラインアップ】 ■モノワンタイプ(センサ用途) ■デリワンタイプ(超音波トランスデューサ用途) ■コ・ポリタイプ(アクチュエータ用途) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • ウエハ加工/研磨装置
  • ウエハー

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コアテクノロジーについて

積層構造にて高品質単結晶を可能にする「多能性中間膜」をご紹介!

当社のコアテクノロジーについてご紹介いたします。 Gaianixxの多能性中間膜は、特定の条件下において格子が位置関係を破壊せずに距離関係を変化するように動く「マルテンサイト変態」を実装しています。ヘテロエピタキシャルで生じる格子ミスマッチを駆動力に、双晶型マルテンサイト変態による「動的格子マッチング」を生じさせることにより、機能性薄膜の格子整合性を高めることに成功しました。 【特長】 ■格子ミスマッチを駆動力に双晶型マルテンサイト変態による  動的格子マッチングを生じることにより、最上部の機能膜を単結晶化させる ■基板上の欠陥を引きずる事なく高品質単結晶を成長させる事も可能 ■歩留やコスト改善にも大きく寄与出来る事が期待出来る ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他

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株式会社Gaianixx 会社案内

東京大学発のスタートアップ!多能性中間膜を駆使して開発・製造

当社は、中間膜及びエピタキシャルの研究開発・製造・販売を 事業としている会社です。 MEMS、パワーデバイス、LED製品をはじめとする半導体の高付加価値化、 軽薄短小化、低価格化実現に必要不可欠な単結晶膜を、独自の多能性中間膜を 駆使して開発・製造します。 ご用命の際は、お気軽に当社までお問い合わせください。 【事業内容】 ■中間膜及びエピタキシャルの研究開発・製造・販売 【沿革・受賞歴】 ■1990年~ 動的格子マッチング中間膜基礎研究 ■2019年~ 多能性中間膜基礎・応用研究 ■2020年~ 多能性中間膜TM 技術実用化   ■2021年11月 株式会社Gaianixx 設立   ■2022年6月  東京大学エッジキャピタル(UTEC)よりSeriesA資金調達   ■2023年1月  文部科学省マテリアル先端リサーチインフラ事業の秀でた利用成果 ”最優秀賞”に選定 ■2023年6月  SeriesB資金調達 ■2023年12月 SeriesB 2ndラウンド資金調達 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • その他半導体

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