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株式会社スパッタコア 本社

設立2025年12月25日
資本金1000万
住所大阪府大阪市淀川区西中島6丁目3番32号 第2新大阪ビル 707号室
電話06-6732-9818
  • 特設サイト
  • 公式サイト
最終更新日:2025/11/10
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セラミックターゲット セラミックターゲット
酸化物ターゲット 酸化物ターゲット
その他の各種ターゲット  その他の各種ターゲット 
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銅(Cu)ターゲット

銅(Cu)ターゲット 純度:3N7~6N 結晶40‐80um C18200 C18150も取り扱い

タッチパネル用を含めて、半導体用も頻繁に出荷中 ■プレーナーターゲット  幅2000mm、長さ3000mmまで可能 ■ロータリターゲット  OD176*ID125*3100mmⅬ年間400トン出荷記録あり ■バッキングプレートも制作可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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チタン(Ti)ターゲット

チタンTiターゲット 最高純度≧5N5

■各種類純度対応可能 ■形状:  プレーナー  ロータリターゲット  非正常形 ■PVD、マグネトロンスパッタリングに使われる ■チタン合金ターゲットも多数取り扱い ■硬度、導電性などの薄膜特性を調整可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ニッケル(Ni)ターゲット

ニッケル(Ni)ターゲット 純度≧4N5

■高純度  半導体業界使用実績も多数あります。 ■緻密性  密度が高い、均一性がいい ■ニッケル合金も種類多く対応可能  NiCr、NiTi、NiCu、NiCuTi ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ハフニュウム(Hf)ターゲット

ハフニュウム(Hf)ターゲット 純度≧4N5 Zr≦0.1wt%

■高純度Hfターゲット、半導体業界使用実績あり  GDMS純度測定値付き ■厳しい管制の状況で、法律に従って許可書対応して輸入を行う ■民用であれば供給可能 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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クロム(Cr)ターゲット

クロム(Cr)ターゲット 純度≧3N8

■純度:2N5~3N8 ■製造法:HIP ■高硬度 ■耐摩耗性強い   ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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タンタル(Ta)ターゲット

タンタル(Ta)ターゲット 純度≧5N

■タンタル(Ta)ターゲットは主に物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)プロセスに用いられる ■高耐熱性、優れた耐蝕性 ■高密度(16.6g/cm3) ・高エネルギースパッタリングに適用し、薄膜堆積効率を高める ■良好な導電性 ・抵抗率が低く、半導体及び電子デバイスの応用に適している ■生体適合性 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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錫(Sn)ターゲット

錫(Sn)ターゲット 純度≧4N

■高純度 ・通常純度が99.99%(4N)以上に達し、半導体、光学膜などの材料純度に対する要求が高い応用を満たすことができる ■良好な導電性 ・錫(Sn)は優れた導電性を有し、ITO薄膜の製造などの透明導電膜に適している ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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ニオブ(Nb)ターゲット

ニオブ(Nb)ターゲット 純度≧3N5

■高純度 ■表面粗さはコントロール可能 ■輸出輸入許可書付き ■半導体業界に供給実績あり ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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タングステン(W)ターゲット

タングステン(W)ターゲット 純度≧5N

■高純度半導体用Wターゲット ■粉末冶金法で製造 ■W合金も多種類出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

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