スパッタコアの製品ラインアップ

金属加工業界において、工具の耐久性と精度は、生産効率と製品品質を左右する重要な要素です。特に、高温や高負荷にさらされる工具においては、材料の耐摩耗性と耐熱性が不可欠です。不適切な材料選定は、工具の早期摩耗や破損を引き起こし、生産性の低下につながる可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度であり、優れた特性を持つため、工具の製造において高いパフォーマンスを発揮します。 【活用シーン】 ・耐摩耗性が求められる工具 ・耐熱性が求められる工具 ・高精度な加工が求められる工具 【導入の効果】 ・工具の長寿命化 ・加工精度の向上 ・生産効率の向上

• その他金属材料

電子部品業界において、接合工程は製品の信頼性を左右する重要な要素です。特に、高温環境や振動にさらされる電子部品では、接合部の品質が製品寿命を大きく左右します。接合不良は、製品の性能低下や早期故障につながる可能性があります。当社タングステン(W)ターゲットは、高品質な接合を実現し、電子部品の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体デバイスの接合 ・電子回路基板の接合 ・電子部品の電極形成 【導入の効果】 ・高純度タングステンによる高品質な接合 ・均一な成膜による接合部の信頼性向上 ・W合金ターゲットによる多様な接合ニーズへの対応

• その他金属材料

研究機関における実験では、精度の高いデータ取得が重要です。特に、スパッタリング実験においては、ターゲット材の品質が実験結果に大きく影響します。不純物の混入や均一性の欠如は、実験データの信頼性を損なう可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度（≧5N）であり、実験の再現性を高めることに貢献します。 【活用シーン】 ・スパッタリング実験 ・薄膜形成実験 ・材料特性評価 【導入の効果】 ・高純度材料による信頼性の高い実験データの取得 ・均一な膜厚形成による実験精度の向上 ・W合金ターゲットによる多様な実験への対応

• その他金属材料

光学業界において、反射材の品質は、光学性能を左右する重要な要素です。特に、高精度な光学機器やレーザーシステムでは、反射面の均一性、高純度、耐久性が求められます。不適切な反射材は、光の散乱や吸収を引き起こし、システムの性能低下につながる可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、これらの課題を解決し、光学性能の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度光学機器 ・レーザーシステム ・反射ミラー ・光学コーティング 【導入の効果】 ・高純度タングステンによる高い反射率 ・均一な膜厚と表面粗さの実現 ・耐久性向上による長寿命化 ・光学性能の向上

• その他金属材料

エネルギー業界、特に耐食性を求められる用途においては、材料の耐久性が非常に重要です。過酷な環境下での使用に耐えうる材料選定が、製品の長期的な信頼性と安全性を確保する上で不可欠となります。タングステン(W)ターゲットは、優れた耐食性を提供し、エネルギー関連設備の安定稼働に貢献します。 【活用シーン】 ・腐食環境下での利用 ・高温環境下での利用 ・高耐久性が求められる用途 【導入の効果】 ・設備の長寿命化 ・メンテナンスコストの削減 ・安定した性能維持

• その他金属材料

自動車業界の電極用途では、高い耐久性と信頼性が求められます。電極は、高温環境や高負荷に耐える必要があり、その性能が製品の品質を左右します。不適切な電極材料は、性能劣化や故障の原因となり、製品の寿命を縮める可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度で製造されており、電極用途に最適な材料です。 【活用シーン】 ・スパッタリングによる電極製造 ・高耐久性、高信頼性が求められる電極部品 【導入の効果】 ・電極の耐久性向上 ・製品の品質向上 ・長期的なコスト削減

• その他金属材料

航空宇宙業界では、高温環境下での部品の耐久性が求められます。特に、ロケットエンジンや航空機のタービンブレードなど、耐熱性が重要な部品においては、材料の劣化を防ぎ、長期間にわたる性能維持が不可欠です。不適切な材料選定は、部品の故障や性能劣化につながる可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度であり、耐熱性に優れた材料です。スパッタリング技術により、均一な膜形成が可能となり、航空宇宙分野における耐熱部品の製造に貢献します。 【活用シーン】 ・ロケットエンジンのノズル ・航空機タービンブレードのコーティング ・宇宙探査機の耐熱シールド 【導入の効果】 ・高温環境下での部品の長寿命化 ・高い耐熱性と耐久性の実現 ・スパッタリングによる均一な膜形成

• その他金属材料

医療機器業界、特にX線システムにおいては、高精度な画像診断が求められます。X線発生源となるターゲット材の品質は、画像の鮮明さ、診断の正確性に直結するため、非常に重要です。不純物の混入やターゲット材の均一性の欠如は、X線の質を低下させ、診断精度を損なう可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度かつ均一な品質を提供することで、X線システムの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・X線診断装置 ・CTスキャン ・歯科用X線装置 ・工業用X線検査装置 【導入の効果】 ・高画質X線画像の実現 ・診断精度の向上 ・装置の長寿命化

• その他金属材料

ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能と品質を左右する重要な要素です。特に、ディスプレイの表示性能を向上させるためには、均一で高品質な薄膜の形成が不可欠です。不適切なターゲット材の使用は、薄膜の品質を低下させ、ディスプレイの輝度やコントラストに悪影響を及ぼす可能性があります。当社のタングステン(W)ターゲットは、高純度で均一な薄膜形成を可能にし、ディスプレイの高性能化に貢献します。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造における薄膜形成 ・高精細ディスプレイ、有機ELディスプレイ、液晶ディスプレイ ・スパッタリングによる薄膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成によるディスプレイ性能向上 ・均一な膜厚と高い密着性 ・歩留まり向上とコスト削減

• その他金属材料

半導体業界において、スパッタリングは高品質な薄膜形成に不可欠です。特に、高集積化が進む中で、ターゲット材の純度と均一性が、デバイスの性能を左右する重要な要素となります。不純物の混入や膜厚のばらつきは、製品の歩留まり低下や信頼性問題を引き起こす可能性があります。当社タングステン(W)ターゲットは、高純度（≧5N）を実現し、スパッタリング効率を向上させることで、これらの課題を解決します。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・高密度デバイス製造 ・スパッタリングによる金属膜形成 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成によるデバイス性能向上 ・歩留まりの改善 ・信頼性の高い製品の実現

• その他金属材料

研究機関における実験では、材料の純度と均一性が実験結果に大きく影響します。特に、薄膜形成実験においては、ターゲット材の品質が重要であり、不純物の混入や均一性の欠如は、実験の再現性を損なう可能性があります。当社のハフニュウム(Hf)ターゲットは、高純度と均一性を実現し、実験の信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・薄膜形成実験 ・材料特性評価実験 ・スパッタリング実験 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・実験の再現性向上 ・高品質な薄膜の形成

• その他金属材料

光学レンズ業界では、高い透過率と耐久性が求められます。特に、紫外線や高温環境にさらされるレンズにおいては、材料の純度と均一性が、レンズの性能維持に不可欠です。不適切な材料や製造プロセスは、レンズの性能劣化や寿命の低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高い純度と均一性により、光学レンズの性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・光学レンズ製造 ・コーティング ・スパッタリング 【導入の効果】 ・レンズの透過率向上 ・レンズの耐久性向上 ・成膜の安定性向上

• その他金属材料

計測機器業界、特にセンサー分野では、高精度な測定と安定した性能が求められます。センサーの性能は、使用される材料の品質に大きく左右され、特に薄膜形成に使用されるターゲット材の純度と均一性が重要です。不純物の混入や膜厚の不均一性は、センサーの感度低下や誤作動を引き起こす可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、これらの課題に対応し、センサーの信頼性向上に貢献します。 【活用シーン】 ・高精度センサー ・環境計測機器 ・医療用センサー 【導入の効果】 ・高純度材料によるセンサー性能の向上 ・均一な薄膜形成による安定性向上 ・UT検査による内部欠陥の排除

• その他金属材料

エネルギー分野、特に燃料電池などの分野では、高性能化と耐久性向上のために、高品質な材料が求められます。ハフニュウム(Hf)ターゲットは、これらの要求に応える可能性を秘めています。高純度Hfターゲットは、薄膜堆積の安定性と一致性を確保し、燃料電池の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・燃料電池 ・エネルギー貯蔵デバイス 【導入の効果】 ・エネルギー効率の向上 ・デバイスの長寿命化

• その他金属材料

ディスプレイ業界では、薄膜形成技術が製品の性能を左右します。特に、スパッタリング技術を用いた高品質な薄膜形成には、高純度Hfターゲットが不可欠です。Hfターゲットの純度と均一性が、ディスプレイの表示性能や耐久性に大きく影響します。当社製品は、高純度Hfターゲットを提供し、お客様のディスプレイ製品の品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ディスプレイ製造におけるスパッタリング工程 ・薄膜トランジスタ（TFT）製造 ・タッチパネル製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜形成による表示性能の向上 ・製品の耐久性向上 ・歩留まりの改善

• その他金属材料

化学業界の触媒用途では、反応効率を高めるために、触媒材料の純度と均一性が重要です。特に、高純度Hfターゲットは、触媒反応の選択性と活性を向上させる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高い純度と均一性により、触媒反応の安定性と再現性を実現します。 【活用シーン】 ・触媒材料の研究開発 ・高性能触媒の製造 ・化学反応プロセスの最適化 【導入の効果】 ・触媒性能の向上 ・反応効率の改善 ・製品品質の安定化

• その他金属材料

電子部品業界において、誘電体膜の性能は製品の信頼性を左右する重要な要素です。特に、小型化が進む中で、薄膜の均一性、高純度、内部欠陥の無さが求められます。Hfターゲットは、これらの要求に応えることで、電子部品の性能向上に貢献します。 【活用シーン】 ・誘電体膜の形成 ・コンデンサ、メモリデバイス ・薄膜トランジスタ 【導入の効果】 ・高純度による誘電特性の向上 ・均一な膜厚による性能安定化 ・内部欠陥の排除による信頼性向上

• その他金属材料

医療業界において、造影剤の品質は診断精度に直結し、患者さんの健康を左右する重要な要素です。造影剤の性能を最大限に引き出すためには、高品質な材料の選定が不可欠です。当社のハフニュウム(Hf)ターゲットは、高純度と均一性を実現し、造影剤の製造プロセスにおける品質向上に貢献します。 【活用シーン】 ・造影剤製造 【導入の効果】 ・造影剤の品質向上 ・診断精度の向上

• その他金属材料

航空宇宙業界では、高温環境下での部材の耐久性が重要です。特に、ロケットや航空機のエンジン部品においては、耐熱性と安定性が求められます。ハフニュウム(Hf)ターゲットは、これらの要求に応えるべく開発されました。 【活用シーン】 ・ロケットノズル ・航空機エンジン部品 ・耐熱コーティング 【導入の効果】 ・耐熱性の向上 ・薄膜堆積の安定性 ・製品寿命の延長

• その他金属材料

原子力業界において、制御棒は原子炉の安全な運転に不可欠です。制御棒の性能は、原子炉の出力調整と安全確保に直結するため、その構成材料には高い信頼性が求められます。ハフニュウム(Hf)は、その優れた中性子吸収能力から制御棒の材料として重要です。当社の高純度Hfターゲットは、制御棒の製造において、高い安全性と効率性を実現します。 【活用シーン】 ・原子力発電所 ・研究用原子炉 【導入の効果】 ・原子炉の安全な運転に貢献 ・高い中性子吸収能力による効率的な制御 ・長期的な信頼性の確保

• その他金属材料

半導体業界では、デバイスの高性能化に伴い、薄膜の品質が重要視されています。特に、Hf（ハフニウム）ターゲットを用いた薄膜形成においては、ターゲット材の純度と均一性が、薄膜の特性を大きく左右します。不純物の混入や結晶粒径のばらつきは、薄膜の信頼性低下につながる可能性があります。当社の高純度Hfターゲットは、高品質な薄膜形成をサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造における薄膜形成 ・スパッタリングによるHf薄膜の作製 ・高性能デバイス製造 【導入の効果】 ・高品質な薄膜の実現 ・デバイス性能の向上 ・歩留まりの改善

• その他金属材料

半導体業界では、配線の微細化と高品質化が求められています。配線の信頼性を高めるためには、材料の純度と導電性が重要です。不適切な材料や製造プロセスは、配線の断線や性能劣化につながる可能性があります。当社の錫(Sn)ターゲットは、高純度と優れた導電性により、半導体配線の高品質化に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体製造における配線形成 ・ITO薄膜の製造 【導入の効果】 ・高純度材料による配線信頼性の向上 ・優れた導電性による性能向上 ・均一な成膜による歩留まり向上

• その他金属材料

■純度：99.9％~99.999％ ■理論密度（16.6 g/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 鉄鋼
• その他金属材料

■純度>99.9999999％ ■密度（2.33/cm³） 　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他高分子材料

■純度>99.999％ ■密度（2.33/cm³） ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他高分子材料
• 複合材料

■純度>99.99％ ■理論密度（6.67g/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• ステンレス
• ファインセラミックス

■純度>99.9％ ■密度（4.47 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• レアメタル
• その他金属材料

■純度>99.9％ ■理論密度（4.26 g/cm³） ■HP製造法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 複合材料
• その他金属材料

■純度>99.9％ ■密度（4.49 g/cm³） ■製造方法：HIP法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他金属材料
• 複合材料

■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法　 　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• ファインセラミックス
• 複合材料

■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• ファインセラミックス
• 複合材料

■純度>99.9％ ■密度（3.95 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• アルミニウム
• 複合材料

■純度：99.9％ ■密度（8.9 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■純度：99.5％~99.95％ ■密度（8.4 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■純度：99.9％ ■密度（19.3 g/cm³） ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■純度>99.99％ ■密度（7.15/cm³） ■製造方法：焼結法、HP法　　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• セラミックス
• ファインセラミックス

■純度：99.95％ ■密度（2.72 g/cm3） ■対応可能AlNd比率(wt%）：90:10; 94:6; 98:2など ■真空溶解法　 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• アルミニウム
• 合金

■純度：99.999％ ■密度（2.72 g/cm³） ■製造方法：溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• アルミニウム
• 合金

■純度：99.999％ ■密度（2.69 g/cm³） ■製造方法：焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• アルミニウム
• その他金属材料

■純度>99.995％ ■密度（2.6g/cm³） ■製造方法：焼結法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他金属材料

■純度：99.97％ ■密度（8.9 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■純度>98.0％ ■密度（8.9 g/cm³） ■製造方法：真空溶錬法 ■導電性≥75%IACS ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 合金

■酸化物ターゲット ■製造方法：粉末冶金法 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• セラミックス

■輸出許可書 　ジルコニウム(Zr)ターゲットは中国から輸出制限され、入手困難になりつづでありますが、 　弊社には関連法律に沿って、許可書申請してから常に出荷中。 ■主な特性 　反り 　ジルコニウム(Zr)ターゲットには反りやすい、しかもそり修正しにくい特徴があります。 ■品質保証 　反り検査も含めて、GDMS純度測定など100%検品して出荷 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他金属材料