【製品特長（抜粋）】 ■EB源と電源 ・全機種安定性、再現性に優れたEB源 ・簡単構造でメンテナンス性が良好 ・ランニングコスト低減の構造 ■高周波電源（NET-200I） ・電源本体は非常にコンパクト・軽量 ・マッチングボックスを別置きにすることでフレキシブな設置が可能 ・保護回路は逆変換側で行うため高速で保護 ・低電圧で安全性が高く漏洩電波が非常に少ない ・切換機を設けることで複数のマッチングボックスによる切換運転が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電源

【ラインナップ】 ■NEV-FFGA2 ■NEV-FFGA5 ■NEV-FFGA50 ※詳しくはお問い合わせください。

• その他

【掲載製品】 ■トランジスタインバータ（高周波誘導加熱用 ■酸化物単結晶引上装置（チャンバタイプ） ■自動直径制御装置（ADCシステム） ■μ-PD装置（結晶引下げ装置） ■超小型単結晶引上装置（石英菅タイプ） ■SiC-CVD装置 ■GaP.InP高圧合成装置 ■高温兄ール装置（RTA） ■SiC単結晶育成装置　など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他 実験用器具・備品

【標準仕様】 ■振動方式：傾斜軸回転方式 ■振動：約20ｍｍ ■モーター回転数：500～1600rpm（3段切替方式） ■標準容器 　・材質：sus304 　・内寸：φ55×6h 　・85c.c.（予備品は別契約） ■標準ボール 　・材質：sus304 　・φ11 　・50ヶ ■外形寸法：600W×500L×650H ■真空排気 　・小型ロータリーポンプ内臓 　・20リットル/min ■ガス導入弁：高純度アルゴンガス用（標準） ■圧力確認：連成計 ■容器冷却：水冷ジャケット方式 ■タイマー設定：尾~9990H ■安全対策 　・安全カバー開で停止 　・異常振動時停止 ■電源：3φ　200V　1kVA ■冷却水：3リットル/min　差圧0.2MPa ■雰囲気ガス：高純度アルゴンガス　MAX0.1MPa ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 粉砕機・ミル
• その他 実験用器具・備品

【ラインアップ】 ■NEV-GP5型 ■NEV-GP10型 ■NEVT-GP30型（タンディッシュ方式）　など ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他 粉砕機

【ラインアップ】 ■NEVA-GP2型 ■NEVA-GP4型 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他 粉砕機

【構成】 ■溶解室本体 　・丸型正面開閉扉×1台 　・排気系操作盤付 ■直流アーク電流：MRHP-300型（300A)×1台 ■真空排気系 　・RP：80リットル/min DP:2"×1台 ■真空計：M-430HG型×1台 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 真空機器

日新技研社が取り扱う、結晶育成装置・EB装置の総合カタログです お客様の立場に立った設計製作・アフターサービスを心がけ 低価格で高品質の装置を供給いたします ◆◆掲載製品◆◆ 　　○EB電源と電源 　　○高周波電源 　　○各種金属の溶解装置 　　○液体急冷凝固装置 　　○粉末作製装置 　　○各種研究装置 　　○結晶作製装置 ◆◆カタログご希望の方は資料請求よりお問合わせ下さい◆◆

• その他半導体製造装置

【基本仕様】 ■ルツボサイズ：Φ30×30H×1ｔ ■加熱温度：Max2100℃ ■制御方式：高周波電流制御 ■引上軸移動速度：約1～10mm/h ■引上軸早送り速度：約1～300mm/min ■引上軸回転速度：約1～30rpm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他半導体製造装置

日新技研社が取り扱う、単結晶育成装置総合カタログです 新しい時代のニーズに答える技術集団、日新技研では 次世代の単結晶育成装置を製造・販売しております ◆◆掲載製品◆◆ 　　○トランジスタインバータ 　　○酸化物単結晶引上装置 　　○自動直径制御装置 　　○μ-PD装置 　　○超小型単結晶引上装置 　　○SiC-CVD装置 　　○Gap.InP高圧合成装置 　　○高温アニール装置 　　○SiC単結晶成長装置 ◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆

• CVD装置

日新技研社が取り扱う、真空蒸着用EB源・電源の総合カタログです 蒸着物質に対して、電子ビームを照射し再現性のある蒸着を行います ◆◆掲載製品◆◆ 　　○第三世代光学超多層膜用EB源：NEG-10N型 　　○超小型EB源：NEG-05N型 　　○カスタマイズ可能EB源：NEG-06Nシリーズ 　　○5kw電源：NEB-05S型 　　○5kw電源：NEB-05W型 　　○10kw電源：NEB-10W型 　　○10kw電源：NEB-10WE型 　　○各種付属品 ◆◆その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい◆◆

• 油圧機器

【仕様】 最大ビーム出力：5kW 電源：3Φ 200V ±10% 8kVA 加速電圧：-4kV～-6kV リップル率：5％以下 エミッション電流：0～800mA ビームポジション：±15mm(X/Y) ビームスキャン：±15mm(X/Y)　オプション±20mm ビームスキャニング周波数：X=50Hz、Y=500Hz 外部制御信号：約15項目 重量：150kg ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 油圧機器

【仕様】 最大ビーム出力：10kW 電源：3Φ 200V ±10% 13kVA 加速電圧：-4kV～-10kV リップル率：5％以下 エミッション電流：0～1000mA ビームポジション：±15mm(X/Y) ビームスキャン：±15mm(X/Y)　オプション±20mm ビームスキャニング周波数：X=50Hz、Y=500Hz 外部制御信号：約15項目 重量：250kg ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 油圧機器

【仕様】 加熱温度：MAX 2100℃ 高周波電源：5kW 引上軸 移動速度：1～10ｍｍ/h 引上軸 回転速度：2～60rpm 引上軸 早送り移動：30～300mm/min 引上軸 移動ストローク：600mm ルツボ寸法：Φ30×30H 雰囲気：Ar及び大気 電源容量 高周波電源：3Φ200V　6kVA 電源容量 制御部：1Φ100V　500VA 冷却水：高周波電源　0.2MPa 6ℓ/min ●その他機能や詳細については、カタログをダウンロードして下さい。

• その他加工機械

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 加熱装置

※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。

• 加熱装置

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他理化学機器

【特徴】 ○真空溶解及び噴射室真空排気による酸化防止 ○高融点材料も容易に粉末を作製 ○外熱式真空溶解は小型で、少量実験に最適 ○粉末は100μm以下で高回収率（平均粒径20〜60μm） ○本体および高周波電源、制御盤は全て自社製作のため、 　総合技術によりあらゆるニーズに対応 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他理化学機器

【オプション】 ・容器を加熱するMAX300度 温度制御及び表示 ・液体窒素中でボールミルを行う ・ガスフロー中でボールミルを行う ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他理化学機器

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他理化学機器

●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• 加熱装置

■ロール研磨機能（オプション） 自動でロール表面の研磨ができます。 無人運転も可能です。 ロール室内取付型、室外取付型いずれにも対応いたします。 ※その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。

• その他半導体製造装置