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ヤシマの会社概要
真空技術を基幹として、新しい技術による薄膜作製装置を提供しています。また研究機器の設計製作も行っています。
次世代技術において薄膜作製の必要性はますます増えてまいります。薄膜作製においては低温下で、かつ緻密な、またそうであって生産性も高い、そんな技術が求められています。弊社は従来の対向ターゲット式スパッタ方式ではなしえなかったアーク放電対策を可能にし、上記の条件を満たすユニフォームプラズマスパッタ装置を製作販売しております。
事業内容
低温・高速・緻密成膜を可能にした、新しい対向ターゲット式スパッタ装置--ユニフォームプラズマスパッタ装置。この商品を主力に長年培った真空技術を元に真空機器及び装置そして特殊品の相談をリテールにこだわったきめの細かいサービスとともに承っております。
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当社で取り扱う「真空成膜装置」についてご紹介いたします。 対向する円筒状の磁石にあって、磁気モーメントが保存されることにより 磁場に平行成分の運動エネルギー+磁場に垂直成分の運動エネルギー=一定となることから、 荷電粒子は磁石の両端で跳ね返され両端の磁石の間に高密度プラズマが閉じ込められます。 これにより閉じ込められたプラズマによる高真空下でのスパッタが可能となります。 【特長】 ■低温成膜 ■高真空スパッタ ■独自のスパッタ技術(膜の組成制御・均一なプラズマ) ■独自のマグネトロンカソード ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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