【特長】 ●均一なプラズマ分布 ●独立したプラズマ室 ●基板温度100℃以下の低温スパッタ(SiO2，2KW，1時間) ●基板へのプラズマ衝撃フリーにより緻密な膜の形成・組成ずれのない合金膜 ●CVDのような特殊なガスを使わず、ターゲット間を電子が高速で往復することでスパッタ粒子(ターゲット材)を活性種化。それにより効率的に反応性スパッタ膜が形成されます。 ●テストスパッタはご相談ください。 ●その他機能や詳細については、お問い合わせください。

• その他金属材料
• 有機EL

【ラインアップ(抜粋)】 ＜真空成膜装置＞ 　■RFマグネトロンスパッタ装置 　■対向ターゲットスパッタ装置 　■電子ビーム蒸着装置 ＜各種研究用装置＞ 　■高真空高温炉装置 　■基板加熱装置 　■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• スパッタリング装置
• 真空機器

写真の基本仕様 4元電子ビーム蒸着装置 電源　3KW 排気系　ターボ分子ポンプ＋ロータリポンプ

• 蒸着装置

電源は別置きとなっています。排気系はターボ分子ポンプに変えることも可能です。カスタムオーダーにも対応可能です。多元蒸着装置・大型装置も製作可能です。

• その他表面処理装置

拡張性 ●　基板回転機構の追加（後からの追加が可能） ●　基板加熱機構の追加（後からの追加が可能） ●　スパッタソースの多元化(チェンバー作製時に対応型にする必要があります）。 ●　その他お客様のご希望によるカスタム設計には出来る限り対応いたします。 　

• プラズマ表面処理装置
• 有機EL
• スパッタリング装置

真空用ビューポートです。真空チェンバー内部までガラス窓を直接導入することができます。窓は板ガラスを使用していますので歪が少なく抑えられます。有効視野はICF114を使用した場合、約φ52です。窓材質：コバールガラス

• ガラス

弊社HPに一例を掲示しています(価格表例示)。

• その他理化学機器