粒径 　　　　D10(μm)　　D50(μm)　　　D90(μm) PCD1/8　　　≥0.06　　　0.11-0.14　　　≤0.21 PCD1/4　　　≥0.11　　　0.20-0.25　　　≤0.40 PCD0-1　　　≥0.32　　　0.45-0.55　　　≤0.95 PCD0-2　　　≥0.70　　　0.90-1.10　　　≤1.50 PCD2-4　　　≥1.80　　　2.70-3.10　　　≤4.50 PCD3-6　　　≥2.80　　　4.00-4.40　　　≤7.00 PCD4-8　　　≥4.00　　　5.50-6.00　　　≤8.60 PCD5-9　　 ≥4.70　　　 6.30-7.00　　　≤10.00 PCD5-12　　 ≥5.20　　　 7.20-7.80　　　≤13.00 PCD G3 ≥2.00　　　 2.80-3.10　　　 ≤4.40 PCD G3.5 ≥2.40　　　 3.30-3.60　　　 ≤5.00 PCD G4 ≥2.90　　　 3.90-4.20　　　 ≤6.00

仕様 規格 　　　D10(μm) D50(μm) D90(μm) RCD2-4 ≥2.1 2.8～3.3 ≤5.0 RCD3-5 ≥2.7 3.6～3.9 ≤6.0 RCD4-6 ≥3.0 4.0～4.4 ≤7.0 RCD8-16 ≥3.6 5.0～5.3 ≤7.5 RCD10-12 ≥12.0 17.0～19.0 ≤27.0 スペック：カスタマイズ対応可能

GRISHダイヤモンドスラリーは、高品質のダイヤモンド粒子と分散剤で構成し、多様な研磨プロセスに適応しています。セラミックや、超硬金属を高精度にかつ効率よく研磨します。お客様のご要望に合わせるオリジナルのダイヤモンドスラリーを製造致します。 粒度(μm)　　油ベース　　　　水ベース 1/20　　　 PC-N50-O　　 　PC-N50-W 1/10　　　 PC-N100-O　　　PC-N100-W 1/5　　　　PC-N200-O　　　PC-N200-W 1/4　　　　PC-N250-O　　　PC-N250-W 1/2　　　　PC-N500-O　　　PC-N500-W 1　　　　　PC-1-O　　　　　PC-1-W 2　　　　　PC-2-O　　　　　PC-2-W 3　　　　　PC-3-O　　　　　PC-3-W 4　　　　　PC-4-O　　　　　PC-4-W 6　　　　　PC-6-O　　　　　PC-6-W

仕様 粒度（μm） 水性 油性 3 RC-3-W RC-3-O 4 RC-4-W RC-4-O 5 RC-5-W RC-5-O 6 RC-6-W RC-6-O 10 RC-10-W RC-10-O 17 RC-17-W RC-17-O スペック：カスタマイズ対応可能

GRISHのシリカスラリ（CMP)は、高純度シリコンパウダーを原材料として、弊社独自の加工技術により製品化された低金属イオン型の研磨液でナノレベルの表面仕上げ用として、幅広く使われています。 品番　　　　　　粒径 形状　　 SO-100-PF 90nm-120nm SO-80-PF 70nm-90nm SO-60-PF 50nm-70nm　　　　球状 SO-40-PF 30nm-50nm SO-20-PF 10nm-30nm 規格については、お客様のご要望によりカスタマイズが可能です。