Particle Counterのメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
イプロスは、 製造業 BtoB における情報を集めた国内最大級の技術データベースサイトです。

Particle Counter - メーカー・企業24社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:Jul 16, 2025~Aug 12, 2025
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

Particle Counterのメーカー・企業ランキング

更新日: 集計期間:Jul 16, 2025~Aug 12, 2025
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. デンコム Kanagawa//others 本社
  2. null/null
  3. カノマックスアナリティカル Tokyo//Testing, Analysis and Measurement
  4. 4 null/null
  5. 5 null/null

Particle Counterの製品ランキング

更新日: 集計期間:Jul 16, 2025~Aug 12, 2025
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。

  1. Gas Particle Counter "CI-450t/x" デンコム 本社
  2. Scanning Liquid Nanoparticle Counter STPC 3 カノマックスアナリティカル
  3. KLOTZ Corporation Liquid Particle Counter
  4. 4 Liquid Particle Counter 'KL-05'
  5. 5 Oil Particle Counter "LCM30" インテクノス・ジャパン

Particle Counterの製品一覧

106~109 件を表示 / 全 109 件

表示件数

Particle Counter 'APH036P1/APH033P1'

Compliant with JIS-B9921 and ISO 21501-4! Wide particle size range of 0.3 to 10.0 μm (6 particle size models)

The "APH036P1/APH033P1" is a handheld particle counter with a 4.3-inch color LCD touch panel. It comes in a 3-particle size model with sizes of 0.3, 0.5, and 5.0μm, as well as a 6-particle size model that adds 1.0, 3.0, and 10.0μm. It displays the status of the light source, flow rate, and alarm in real-time, and is equipped with a remote measurement mode (BLE communication) as standard. 【Features】 - Built-in automatic flow control function of 0.1 CFM (2.83 L/min) - Data storage capacity of 15,000 records (6-particle size model) - Touch panel, large 4.3-inch color display - Equipped with a HEPA high-efficiency air filter for exhaust - Uses a lithium-ion battery for approximately 4 hours of continuous operation - 2-year warranty (excluding the built-in pump) *For more details, please refer to the PDF document or feel free to contact us.

  • Particle Counter

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録

Scanning Liquid Nanoparticle Counter STPC 3

Liquid Particle Counter (Semiconductor and Wafer Related)

Are you familiar with Particle Precursors? The cleaning process, which removes debris and contaminants, is extremely important for improving semiconductor yield, and foundries must manage the cleanliness of UPW (Ultra-Pure Water) and chemicals used in cleaning. Until now, liquid-phase particles have been considered a cause of yield reduction, with management focusing on keeping "the number of 20nm particles below a certain threshold." However, it has recently been recognized that contaminants, which are not visible as particles but dissolve in UPW or chemicals and appear when dried, negatively impact yield. "While they couldn't be counted in the liquid, they manifest on the wafer like a stain..." These contaminants are referred to as Particle Precursors. In an environment where terms like miniaturization and integration are prevalent, foundries and suppliers interested in managing particles and precursors in UPW (Ultra-Pure Water) and chemicals (IPA, ammonium hydroxide, hydrogen peroxide, hydrochloric acid, PGME) are encouraged to reach out for inquiries.

  • Other physicochemical equipment

ブックマークに追加いたしました

ブックマーク一覧

ブックマークを削除いたしました

ブックマーク一覧

これ以上ブックマークできません

会員登録すると、ブックマークできる件数が増えて、ラベルをつけて整理することもできます

無料会員登録