洗浄ユニット - 企業ランキング(全20社)
更新日: 集計期間:2026年02月18日〜2026年03月17日
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企業情報を表示
| 会社名 | 代表製品 | ||
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| 製品画像・製品名・価格帯 | 概要 | 用途/実績例 | |
| 【特長】 SPMレスなフォトレジスト除去プロセスを探している 有機・金属汚染を抑えながら洗浄効率を上げたい 低環境負荷の洗浄ソリューションを検討している 金属膜酸化防止プロセスに適応 | |||
| 【その他の特長】 ■空振り防止機能保有する液供給が可能 ■基板への振り切り動作も可能で基板全体への再現性の高い洗浄を実現 | 【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄 | ||
| 【特長】 ・1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射 ・独自の液供給システム ・高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れる ・基板直上照射方式 ・空振り防止機能保有する液供給が可能 ・多様な発振モードを搭載し、基板プロセスに適応した調整が可能 | 【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄 | ||
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- 代表製品
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ラジカル洗浄ユニット<デモ機あり>
- 概要
- 【特長】 SPMレスなフォトレジスト除去プロセスを探している 有機・金属汚染を抑えながら洗浄効率を上げたい 低環境負荷の洗浄ソリューションを検討している 金属膜酸化防止プロセスに適応
- 用途/実績例
洗浄ユニット『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』
- 概要
- 【その他の特長】 ■空振り防止機能保有する液供給が可能 ■基板への振り切り動作も可能で基板全体への再現性の高い洗浄を実現
- 用途/実績例
- 【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄
半導体ウェハー向け洗浄ユニット『PA10-Q60AE-S』
- 概要
- 【特長】 ・1.0MHzまたは3.0MHzの高周波音波を基板へ直接照射 ・独自の液供給システム ・高純度石英製で、低発塵かつ耐薬品性に優れる ・基板直上照射方式 ・空振り防止機能保有する液供給が可能 ・多様な発振モードを搭載し、基板プロセスに適応した調整が可能
- 用途/実績例
- 【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄
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株式会社プレテック 静岡製作所