シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄に好適
『近接型メガソニック PA10-Q60AE-S』は、ノズル先端より1.0MHzまたは 3.0MHzの音波を照射する洗浄ユニットです。 低出力領域からリニアリティーの高い発振が可能。基板直近での洗浄するため、 サブミクロンのパーティクルが除去できます。 空振り防止機能保有する液供給を可能とし、基板への振り切り動作も可能で 基板全体への再現性の高い洗浄を実現します。 【特長】 ■ノズル材質は石英のため低発塵で薬液に耐久性がある ■ノズル先端より1.0MHzまたは3.0MHzの音波を照射 ■低出力領域からリニアリティーの高い発振を可能としている ■基板直近での洗浄するため、サブミクロンのパーティクルが除去できる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【その他の特長】 ■空振り防止機能保有する液供給が可能 ■基板への振り切り動作も可能で基板全体への再現性の高い洗浄を実現 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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【用途】 ■シリコンウェハー、フォトマスク、液晶ガラス、磁気ディスク等の洗浄、CMP後の洗浄、枚葉式洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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企業情報
当社は、半導体業界、フォトマスク業界、ディスク業界及びレンズ業界に対し、 お客様の用途、製造ライン等に対応した各種装置の開発・設計・製造及び販売 などを行っている会社です。 顧客仕様に基づくカスタマイズ生産に特化し、設計、開発、組立て、検査、 据付、保守に至るまで製品のライフサイクルをトータルにサポート。 すべての工程で顧客と密接な関係を構築することで直接、顧客の考える問題点や 技術トレンドを感じ取り、それに応じた開発にいち早く着手しています。
