露光装置 - 企業ランキング(全5社)

更新日：2025年10月29日集計期間:2025年10月01日〜2025年10月28日
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会社名	企業情報	代表製品
会社名	企業情報	製品画像・製品名・価格帯	概要	用途/実績例
ズース・マイクロテック株式会社	所在地神奈川県従業員数 10 事業内容半導体製造装置・技術のご提案および，関連するプロセス／ソリューション開発。取り扱い装置：・紫外線露光装置（マスクアライナ）・レジスト塗布・現像装置（スピン＆スプレーコータ）・ウエハ接合装置（ウエハボンダ）・フォトマスク洗浄装置関連技術分野：... 主要取引先	露光装置　MA/BA8 Gen4 Pro 応相談	【特徴】 ■オペレータ・アシスト機能付き200mmウエハ対応両面アライナ ■オートアライメント、ウエハレベル・マイクロレンズ、UV‐MIL、ボンドアライメント　 UVボンディング対応の豊富なオプション ■薄ウエハ、反りウエハ対応オプション ■アライメント精度±0.25...
		露光装置　MJB4 応相談	【特徴】 ■アライメント精度±0.5um ■小片～100mmウエハ対応 ■グラフィカルユーザインターフェース □その他詳細についてはカタログをご覧ください
		露光装置　MA300　Gen2 応相談	【特徴】 ■最先端の３次元積層パッケージング技術で不可欠なTVSや　ウエハレベルパッケージで要求されるバンプ、再配線の加工に最適な　300mmウエハ用両面マスクアライナ ■アライメント精度0.5um＠3σ □その他詳細についてはカタログをご覧ください
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ズース・マイクロテック株式会社

所在地

神奈川県

従業員数

10

事業内容

半導体製造装置・技術のご提案および，関連するプロセス／ソリューション開発。取り扱い装置：・紫外線露光装置（マスクアライナ）・レジスト塗布・現像装置（スピン＆スプレーコータ）・ウエハ接合装置（ウエハボンダ）・フォトマスク洗浄装置関連技術分野：...

主要取引先

代表製品

露光装置　MA/BA8 Gen4 Pro

概要

【特徴】 ■オペレータ・アシスト機能付き200mmウエハ対応両面アライナ ■オートアライメント、ウエハレベル・マイクロレンズ、UV‐MIL、ボンドアライメント　 UVボンディング対応の豊富なオプション ■薄ウエハ、反りウエハ対応オプション ■アライメント精度±0.25...

用途/実績例

露光装置　MJB4

概要

【特徴】 ■アライメント精度±0.5um ■小片～100mmウエハ対応 ■グラフィカルユーザインターフェース □その他詳細についてはカタログをご覧ください

用途/実績例

露光装置　MA300　Gen2

概要

【特徴】 ■最先端の３次元積層パッケージング技術で不可欠なTVSや　ウエハレベルパッケージで要求されるバンプ、再配線の加工に最適な　300mmウエハ用両面マスクアライナ ■アライメント精度0.5um＠3σ □その他詳細についてはカタログをご覧ください

用途/実績例
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所在地

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事業内容

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