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最終更新日:2011年02月25日

ズース・マイクロテック株式会社
ズース・マイクロテック株式会社
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再配線の加工に最適な300mmウエハ用両面マスクアライナ

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

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【特徴】 ■最先端の3次元積層パッケージング技術で不可欠なTVSや   ウエハレベルパッケージで要求されるバンプ、再配線の加工に最適な  300mmウエハ用両面マスクアライナ ■アライメント精度0.5um@3σ □その他詳細についてはカタログをご覧ください

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300mm対応3次元積層向け全自動接合装置 XBC300

【終了しました】 6月3日(金) JIEP最先端実装技術シンポジウム(東京ビッグサイト)にて、ズース・マイクロテック社の3次元積層/TSV形成向けウェーハプロセス技術を紹介。

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6月3日(金)東京ビッグサイトにて開催されるJIEP最先端実装技術シンポジウム/セッション3A1『次世代3次元パッケージに対応する新実装技術』(9:30~12:30)において、ズース・マイクロテック社の3次元積層向けウェーハプロセス技術をご紹介いたします。 CMOSイメージセンサーやMEMS等の分野で、TSVを用いた3次元積層デバイスの開発が進められています。3次元積層/複合化において必要となるリソグラフィー、薄ウェーハハンドリング(仮貼り合わせ/剥離)及び、ウェーハ接合技術についてご紹介いたします。 このセミナーでは、この他に3次元実装や次世代パッケージングの最新技術について、各分野の方々がご講演されます。 □詳しくはお問合せください。

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ズース マイクロテックは、半導体産業とその関連市場で70年以上にわたるエンジニアリングの経験を誇る微細構造加工装置の世界有数のサプライヤーです。 当社では、半導体後処理工程のリソグラフィ、ウエハ接合、およびフォトマスク処理のための幅広い製品とソリューション、およびそれに付帯するマイクロオプティクスコンポーネントを幅広く取り扱っています。 ズース マイクロテックは,MEMS,LED,先端パッケージング,三次元積層,パワー半導体,ナノテクノロジー等の市場において,優れたパフォーマンス/費用対効果,特殊仕様品への対応に加え,多様かつ急速に変化する製造環境にも柔軟に対応できる装置を提供し続けています。

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