【終了しました】 6月3日(金) JIEP最先端実装技術シンポジウム(東京ビッグサイト)にて、ズース・マイクロテック社の3次元積層/TSV形成向けウェーハプロセス技術を紹介。
![ズース・マイクロテック株式会社](https://image.mono.ipros.com/public/company/logo/c9f/293702/IPROS13159571183026943238.gif?w=170&h=170)
6月3日(金)東京ビッグサイトにて開催されるJIEP最先端実装技術シンポジウム/セッション3A1『次世代3次元パッケージに対応する新実装技術』(9:30~12:30)において、ズース・マイクロテック社の3次元積層向けウェーハプロセス技術をご紹介いたします。
CMOSイメージセンサーやMEMS等の分野で、TSVを用いた3次元積層デバイスの開発が進められています。3次元積層/複合化において必要となるリソグラフィー、薄ウェーハハンドリング(仮貼り合わせ/剥離)及び、ウェーハ接合技術についてご紹介いたします。
このセミナーでは、この他に3次元実装や次世代パッケージングの最新技術について、各分野の方々がご講演されます。
□詳しくはお問合せください。
![300mm対応3次元積層向け全自動接合装置 XBC300](https://image.mono.ipros.com/public/news/image/1/28e/11687/IPROS1539061436190275011.jpg?w=280&h=280)
このニュースへのお問い合わせ
Webからお問い合わせこのニュースの詳細・お申し込み
詳細・お申し込み
関連リンク
JIEP最先端実装技術シンポジウム プログラム