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最終更新日:2017年09月28日

ズース・マイクロテック株式会社
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R&D小ロット生産に最適

自社開発の回折光減小光学系、WECシステム採用

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【特徴】 ■オペレータ・アシスト機能付き200mmウエハ対応両面アライナ ■オートアライメント、ウエハレベル・マイクロレンズ、UV‐MIL、ボンドアライメント   UVボンディング対応の豊富なオプション ■薄ウエハ、反りウエハ対応オプション ■アライメント精度±0.25um □その他詳細についてはカタログをご覧ください

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先端MEMS製造向け 全自動ウエハ接合装置 CBC200

【終了しました】 マイクロマシン/MEMS展(7月13日(水)~15日(金),有明・東京ビッグサイト)に出展いたします。

  • キャンペーン

ズース・マイクロテック株式会社は,7月13日(水)~15日(金)の3日間,有明・東京ビッグサイトにて開催される『第22回マイクロマシン/MEMS展』に出展いたします。東2ホール・B-05ブースに是非お立ち寄りください。 MEMS,LED,3Dパッケージング向けウエハプロセス装置として,マスクアライナー,レジスト塗布/現像装置,ウエハ接合装置,仮貼り合わせ/剥離装置をご紹介いたします。薄化ウエハの剥離,高輝度LED向けメタル接合などのサンプル展示を予定しております。また,田中貴金属工業(株)様との共同出展として,サブミクロンAu粒子を用いたウエハ接合技術についても展示いたします。 併設される出展者プレゼンテーションにて,『先端リソグラフィ,ウエハ接合技術 ~先端MEMS,高輝度LED,薄ウエハ搬送~』と題し,主に先端MEMS,高輝度LED向けウエハ接合技術をご紹介いたします。7月14日(木)14:40~15:30,出展者プレゼンテーションルーム(東1ホール側出入口横)に是非お越しください。

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ズース マイクロテックは、半導体産業とその関連市場で70年以上にわたるエンジニアリングの経験を誇る微細構造加工装置の世界有数のサプライヤーです。 当社では、半導体後処理工程のリソグラフィ、ウエハ接合、およびフォトマスク処理のための幅広い製品とソリューション、およびそれに付帯するマイクロオプティクスコンポーネントを幅広く取り扱っています。 ズース マイクロテックは,MEMS,LED,先端パッケージング,三次元積層,パワー半導体,ナノテクノロジー等の市場において,優れたパフォーマンス/費用対効果,特殊仕様品への対応に加え,多様かつ急速に変化する製造環境にも柔軟に対応できる装置を提供し続けています。

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