シート抵抗測定器 - Company Ranking(6 companyies in total)
Last Updated： Aggregation Period:2025年08月06日〜2025年09月02日
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Display Company Information
| Company Name | Featured Products | ||
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| Product Image, Product Name, Price Range | overview | Application/Performance example | |
| 【X-Yプローブ軸移動によるセミオート測定システム（ローダー/アンローダーロボットとのドッキングより全自動システムになります）】 ◆FPD分野における世界標準機 ◆セルフテスト機能、測定位置補正、広範囲測定レンジ ◆0.1mm分解能で、測定パターンを任意に設定可能 ◆ガラス昇降機能、センタリング機能 ◆CIM（ホスト）通信、2-D/3-Dマッピングソフトウェア ●対象ガラス基板サイズ：680mm×880mm 〜 2,200mm×2,500mm (2,880mm×3,080mmまで構想中） | TFT、EL(OLED)、CF、太陽電池パネルなどのITO膜、各種メタル膜、n+a-Si膜など | ||
| 【4探針測定器にロボットとアライメントユニットを搭載した全自動システム】 ◆厚さ測定、P/N判定、温度測定に対応可能（シリコンウエハ） ◆セルフテスト機能、校正機能、広範囲測定レンジ ◆厚さ・周辺位置・温度補正機能（抵抗率測定時） ◆シート抵抗・膜厚表示が可能（メタル膜測定時） ◆カセット数はご要望により、いくつでも対応可能 ◆通信ソフトウェア、SMIFまたはFOUP対応（オプション） ◆最大1,225点のマッピングソフトウェア（オプション） ●対象サイズ：3インチ〜8インチ（12インチバージョンもございます） | シリコンウエハ、半導体プロセス膜（エピ、イオン注入、拡散など）、メタル膜、ITO膜、導電性セラミックなど | ||
| 【半導体プロセス評価用に最適な自動薄膜シート抵抗測定器】 ◆４種類のプローブヘッドを装着可能なロータリー機能のため、測定サンプル毎のプローブ交換作業が不要 ◆デュアルモードにより、エッジ１mmまで高精度に測定 ◆高速測定による優れたコストメリット ◆薄膜３nmの測定実績 ◆FOUP標準装備（オプション：SMIF/AM3000）、GEM/SECS対応 | 半導体プロセス膜（エピタキシャル、拡散、イオン注入、ポリシリコン）、メタル膜、シリコンウエハ | ||
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ナプソン株式会社
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- Featured Products
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抵抗率／シート抵抗測定器【RT-3000/RS-1300】
- overview
- 【X-Yプローブ軸移動によるセミオート測定システム（ローダー/アンローダーロボットとのドッキングより全自動システムになります）】 ◆FPD分野における世界標準機 ◆セルフテスト機能、測定位置補正、広範囲測定レンジ ◆0.1mm分解能で、測定パターンを任意に設定可能 ◆ガラス昇降機能、センタリング機能 ◆CIM（ホスト）通信、2-D/3-Dマッピングソフトウェア ●対象ガラス基板サイズ：680mm×880mm 〜 2,200mm×2,500mm (2,880mm×3,080mmまで構想中）
- Application/Performance example
- TFT、EL(OLED)、CF、太陽電池パネルなどのITO膜、各種メタル膜、n+a-Si膜など
抵抗率／シート抵抗測定器【WS-8800】
- overview
- 【4探針測定器にロボットとアライメントユニットを搭載した全自動システム】 ◆厚さ測定、P/N判定、温度測定に対応可能（シリコンウエハ） ◆セルフテスト機能、校正機能、広範囲測定レンジ ◆厚さ・周辺位置・温度補正機能（抵抗率測定時） ◆シート抵抗・膜厚表示が可能（メタル膜測定時） ◆カセット数はご要望により、いくつでも対応可能 ◆通信ソフトウェア、SMIFまたはFOUP対応（オプション） ◆最大1,225点のマッピングソフトウェア（オプション） ●対象サイズ：3インチ〜8インチ（12インチバージョンもございます）
- Application/Performance example
- シリコンウエハ、半導体プロセス膜（エピ、イオン注入、拡散など）、メタル膜、ITO膜、導電性セラミックなど
抵抗率／シート抵抗測定器【WS-3000】
- overview
- 【半導体プロセス評価用に最適な自動薄膜シート抵抗測定器】 ◆４種類のプローブヘッドを装着可能なロータリー機能のため、測定サンプル毎のプローブ交換作業が不要 ◆デュアルモードにより、エッジ１mmまで高精度に測定 ◆高速測定による優れたコストメリット ◆薄膜３nmの測定実績 ◆FOUP標準装備（オプション：SMIF/AM3000）、GEM/SECS対応
- Application/Performance example
- 半導体プロセス膜（エピタキシャル、拡散、イオン注入、ポリシリコン）、メタル膜、シリコンウエハ
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ナプソン株式会社
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