高機能セラミックス展（CERAMIC JAPAN）にて弊社製品をご覧いただけます！

脱遊離！既存装置の定盤に貼り付け可能。ガラス素材の高品質加工を簡単・クリーン・効率的に実現するダイヤ研削パッド

SQUADRO-G2は、革新的で効率的なダイヤモンド研削パッドSQUADRO-Gの第２世代製品です。新しい製造プロセスにより、より柔軟に様々な大きさの製品を提供可能となりました。使用面では、SQUADRO-G2は、使い終わる瞬間まで高い研磨レートを維持し、高い表面品質をもたらします。SQUADRO-G2は、製品寿命の長さと使いやすさにより、他の研削パッドや従来のラッピング方法に代わる、経済的で効率的な手段となります。 【特徴】 ■様々な外径サイズに対応 ■他の研削パッドに比べ、製品寿命が長く経済的 ■スラリーによるラッピングよりもクリーン ■高い平坦度と表面品質、精密なエッジ ■既存装置の定盤に貼り付けることで、簡単に脱遊離砥粒が実現可能 【主な用途】 光学ガラス、BK7、石英ガラス、窒化アルミニウム、リチウム・タンタレートなど ※研削パッドSQUADROは、用途に合わせて3種類の硬さのボンド材にてご提供しております。 　詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問合せください。

• 砥石

高い研削性・高寿命・ほぼ全ての冷却潤滑材（クーラント）に対応したメタルボンド仕様の研磨パッド

セラミックスやガラス、各種金属などのワークの研削加工におすすめの研磨パッドです。メタルボンドで固定されたダイヤモンド砥粒により、高い研磨レートを維持します。高い研削性を維持し、高寿命であることに加え、メタルボンド仕様のため、ほとんどすべての冷却潤滑材（クーラント）に対応しています。 【特徴】 ■サファイアも研磨可能な高い研削性 ■常に平面かつ精密なエッジ ■研磨紙やスラリーより経済的 ■スラリー不要のため環境に配慮されている ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• 砥石

SiCやサファイアなどに高い研磨レートと優れた面仕上がりを実現！

ピュアオンでは、IRINO-PROSiCとダイヤモンドスラリーPURE-DS-RTを組み合わせてSiCウエハを高速研削することで、従来の加工方法と比較して大幅なコストカットを実現するラピッドシニングプロセスを提案しています。この革新的な組み合わせは優れた表面品質を実現するだけでなく、高い加工レートを保証し、CMPプロセスへのスムーズな移行が求められる用途に適しています。 背面は自己粘着テープとなっているため、IRINO-PROSiCは既存の金属定盤に簡単に貼り付けでき、SiC研削工具の使いやすさと効率を高めます。IRINO-PROSiCは、優れた表面品質と高い加工レートのどちらを求める場合でも、高度なSiC加工に最適な製品です。 【特徴】 ■Rapid Thinning プロセスに適した革新的な研削パッド ■SiCの研削に最適 ■Ra 1 nmレベルの面仕上がり ■従来の研削プロセスと比較して高い競争力 ■エッジの面ダレを起こさないフラットな仕上がり ■フラットな定盤の片面/両面研磨機にて使用可能(ドレス必須)

• その他研磨材

先進的な微細孔構造ポリウレタンブロック。高速CNCやスピンドル研磨装置を使用しての光学材料研磨におすすめです

IC OPTIC Puckは、平面や球面の光学材料の研磨におすすめの微細孔構造ポリウレタンブロックです。 従来の金属やガラス成形ツールに接着された花弁型パッドに代わり、高速CNC研磨装置やスピンドル研磨装置でご使用いただけます。円柱形のブロックで提供いたしますので、ご使用時にお好きな形状に成形いただけます。成形方法は、関連動画よりご覧いただけます。 【特徴】 ■製品全体の均一な微細孔構造により、研磨加工能力が向上 ■対象形状を選ばず、安定した加工精度を発揮 ■機械加工による簡単な形状成形、数回に渡るリユースによる低コスト化が可能 ■ドレス加工の頻度が少なく、長時間の研磨加工が可能 ■急なRやその他の難しい形状でも、表面形状を維持した状態で　研磨加工をサポート ■形状が損なわれるリスクが低く、研磨部品の精度向上のサポートが可能 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

• レンズ
• その他研磨材

貴社におかれましては益々ご盛栄のこととお慶び申し上げます。 弊社は以下の展示会に出展し、新製品を含め多数の製品をご紹介させていただきます。 ご多忙中のところ大変恐縮でございますが、この機会に是非ともご来場いただきたくご案内申し上げます。 【 展示会名 】 人とくるまのテクノロジー展 2025 NAGOYA https://aee.expo-info.jsae.or.jp/ja/nagoya/ ※ 会期中およびその前後の期間、"オンライン展示会" も開催されます 【 会 期 】 2025年7月16日（水）～ 18日（金） 10:00 ～ 17:00 ※ オンライン展示会 ： 7月9日（水）～ 7月30日（水） 【 会 場 】 Aichi Sky Expo（愛知県国際展示場） ブース番号「 44 」 〒479-0881 愛知県常滑市セントレア５丁目１０番１号

クロムソードジャパン株式会社主催ウェビナーにて、従来のC18やphenyl固定相と異なる独自の選択性を有するRestekのBiphenylカラムについて解説します。 『20年の信頼と実績が生む、Restek Biphenylカラムケミストリー』 20年前、Restekは、逆相クロマトグラフィーの分離を解決する革新的なBiphenylカラムを開発しました。本ウェビナーでは、従来のC18やphenyl固定相と異なる独自の選択性を有するRestekのBiphenylカラムについて余すことなく紹介いたします。 https://www.chromsword.co.jp/seminar/hplc_webinar202504/ （レステック株式会社）

製造業でのトレーサビリティや、物流業での商品・入出荷管理などでコードリーダー導入をご検討中の方必見のウェビナー！ 　『印字がかすれていたり、ゆがんだコードが読み取れない』 　『高速搬送ラインで読み取りエラーが頻発する』 　『設定や調整に時間がかかる』 といった、お悩みや疑問をお持ちの方は解決のヒントになるかもしれませんので、ぜひご覧ください。 ★TIME TABLE★ -メーカー会社紹介　1min -iRAYPLEコードリーダーの特長　6min -ラインナップ　8min -設定ツールEasyID　4min -アプリケーション事例　2min -ロボットセンターの紹介　1min お手数ですが関連カタログより見逃し配信用動画URLが記載された資料をダウンロードの上、ご覧ください

[講　師] 株式会社ケミストリーキューブ 代表取締役 イノベーションコンサルタント 平木 肇 氏 [重点講義内容] 戦略デザインは、技術・科学・知財・ビジネスを統合し、現場発のイノベーションを実現するためのテクノロジーマネジメント（MOT：Management Of Technology）の中核となる取り組みです。 本講演では、現場の技術者・研究者が戦略デザインの実践を通して、自ら事業家視点を持ってビジネスモデルや技術戦略を描く力を養い、R&D部門が企業の成長エンジンとなるための実践的アプローチを紹介します。具体的なフレームワークや事例を交えながら、組織における戦略構想力と人材育成の両面からR&D現場に必要な取り組みを考えます。 [講演項目] １．変革期におけるR&Dの役割と「戦略デザイン」の重要性 ２．戦略デザインのコンセプト ３．R&D現場における戦略デザインの実践 ４．戦略デザインがもたらす変革 ５．質疑応答／名刺交換

[講　師] ＲＡＵＬ（株） 代表取締役社長 （一社）エネルギー情報センター 理事 江田 健二 氏 東北電力株式会社 事業創出部門 アドバイザー 大阪大学フォーサイト株式会社 取締役 出馬 弘昭 氏 [重点講義内容] 一．系統用蓄電池ビジネスの全体像と実際の運用まで 【江田　健二　氏】 １．系統用蓄電池ビジネスとは？ ２．ビジネスの収益構造／各市場 ３．導入検討から運用開始までの流れ ４．主要なビジネスプレイヤー ５．質疑応答／名刺交換 二．LDESの最新トレンドと主要な開発企業 【出馬　弘昭　氏】 １．LDESが必要となる背景 ２．4つの技術方式の特徴 ３．電気化学LDESを開発する主な企業7社 ４．機械式LDESを開発する主な企業14社 ５．熱方式LDESを開発する主な企業14社 ６．化学方式LDESを開発する主な企業2社 ７．質疑応答／名刺交換