日刊工業新聞全国版 2024年12月23日号 岡山県特集ページに、タカヤ株式会社 RF事業部の紹介記事が掲載されました。

多様なビジネスモデルの価値をさらに高めるRFID技術。セキュリティからFA、物流まで幅広い産業分野で活躍。

RF事業部の中心的な業務は、無線周波数を使用した製品の開発・製造・販売です。 1996年以来、電波式ストアセキュリティゲート、2.45GHz RFIDリーダライタ、13.56MHz RFIDリーダライタ、 各種応用システム製品の開発を行い、セキュリティからFA、物流までの幅広い産業分野でタカヤ製品は活躍。 自社企画製品だけではなく、OEM/ODM供給から受託開発、EMSサービス・システムソリューションを提供し、 多様なビジネスモデルにおける付加価値の創造に貢献しています。

• ＩＣタグ

クラウド環境を活用した TAKAYA IoT プラットフォーム

近年、働き方改革の推進に伴い、生産性の向上や長時間労働の是正がより一層求められるようになり、企業は従業員の作業時間や作業内容の実態を正確に把握する必要がありますが、そのデータ収集の正確性は不透明です。 特に製造業においては、手書きの帳票を使用しているケースが多く、記入漏れや記入間違いにより正確な実績情報を把握するのが難しいといった課題があります。そうした背景から当社では、自律型RFIDリーダにRFタグを置くだけで実績データを送信できる「RFID作業実績収集システム」を開発しました。作業の着工・完工の度に記録する必要がないため、作業者が意識することなく、自然に正確な作業時間を記録できます。実績データを簡単に収集できるため、集計データ分析に時間を割けるようになり、人員配置の見直しや各工程の状況を把握・改善といった利益改善データとして有効活用頂けます。

• その他運用管理ソフト

工程状況の変化をリアルタイムに把握！これからは置くだけで実績入力が完了します

作業場に配置した端末に各種カードを置く・外すだけで実績情報を自動で 収集する『RFID活用工程進捗・実績収集システム』をご紹介します。 カードは20枚まで重ねても読み取り可能で、作業場を離れる時もカードを 外すだけ。工程状況の変化をリアルタイムに把握します。 また、IoTエッジデバイス向き液晶タッチパネル付きのRFIDリーダライタは、 スタンドアローン動作でPCの設置が不要です。WEBサーバ機能を使用して、 ブラウザからリーダライタを直接コントロールします。 【特長】 ■カードは20枚まで重ねても読み取り可能 ■作業場を離れる時もカードを外すだけ ■使い方は自由自在 ・使い勝手の良いトレイ型、スリムで場所を取らないスタンド型 ・端末の液晶画面ではエラーの表示や直接実績の入力も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• ＩＣタグリーダ・ライタ

TECHNO-FRONTIER 2024 第6回 “つながる工場”推進展 出展の様子を動画でご紹介します。

タカヤのクラウドサービスを用いて作業実績収集やロケーション管理が可能です。自律型リーダを現場に設置すれば、後は自動的にRFタグを読んで取得データをクラウドへ送信できるので、リーダの制御用PCも不要です。

• ＩＣタグリーダ・ライタ

東京, 2026年1月18日 - (JCN Newswire) - デジタル資産が「魂」を失いつつある現代において、Kamirai（カミライ）は新たなデジタル主権の夜明けを宣言します。分散型金融（DeFi）の混沌とした自由と、日本神話の規律ある美学を架橋するKamiraiは、単なるトークンではありません。それは、ゲーミングと本格的な資産形成が交差する、超映画的（ハイパーシネマティック）なエコシステムへの入り口です。 Kamirai財団は本日、プレセールの正式開始を発表いたしました。名誉、希少性、そして実用性の上に築かれたこのプロトコルにおいて、早期参入の権利を確保する唯一の機会となります。 参加方法： プレセールは以下の公式ウェブサイトにて現在進行中です。 公式URL: www.kamirai.io

セリウム研磨材の資料を久々に更新しました。 昨今のレアアース問題に関しても情報提供しております。 是非、ご参考にご一読下さい。よろしくお願い申し上げます。

株式会社スプライン・ネットワーク（本社：東京都渋谷区、代表取締役社長：雪野 洋一）は、同社が企画・ 販売するクラウド型フルマネージド Wi-Fi Security ソリューション： WiSAS)の常時監視サービス： WiSAS NORA に、2026 年 1 月 20 日から 24H365D オプション機能が追加されることを発表します。

ドコモFOMA（3G) が2026年3月で終了を予定されていることに伴い、弊社製品への影響および対応方法についてお知らせいたします。 詳細は添付のPDFファイルをご参照ください。

シルセスキオキサンの処理温度と分子構造と誘電率などの物性の関係についてのお話です。 合成した新規シルセスキオキサンは処理温度が100℃⇒200℃⇒300℃と高くなるにつれ、誘電率も誘電正接も小さくなったようです。 詳しくは、下記関係リンクへ https://banyohkagaku.co.jp/infodetail?wgd=news-162&wgdo=date-DESC,sort-ASC