SiC,GaN加工技術展2025に出展します！

脱遊離！既存装置の定盤に貼り付け可能。ガラス素材の高品質加工を簡単・クリーン・効率的に実現するダイヤ研削パッド

SQUADRO-G2は、革新的で効率的なダイヤモンド研削パッドSQUADRO-Gの第２世代製品です。新しい製造プロセスにより、より柔軟に様々な大きさの製品を提供可能となりました。使用面では、SQUADRO-G2は、使い終わる瞬間まで高い研磨レートを維持し、高い表面品質をもたらします。SQUADRO-G2は、製品寿命の長さと使いやすさにより、他の研削パッドや従来のラッピング方法に代わる、経済的で効率的な手段となります。 【特徴】 ■様々な外径サイズに対応 ■他の研削パッドに比べ、製品寿命が長く経済的 ■スラリーによるラッピングよりもクリーン ■高い平坦度と表面品質、精密なエッジ ■既存装置の定盤に貼り付けることで、簡単に脱遊離砥粒が実現可能 【主な用途】 光学ガラス、BK7、石英ガラス、窒化アルミニウム、リチウム・タンタレートなど ※研削パッドSQUADROは、用途に合わせて3種類の硬さのボンド材にてご提供しております。 　詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問合せください。

• 砥石

SiCやサファイアなどに高い研磨レートと優れた面仕上がりを実現！

ピュアオンでは、IRINO-PROSiCとダイヤモンドスラリーPURE-DS-RTを組み合わせてSiCウエハを高速研削することで、従来の加工方法と比較して大幅なコストカットを実現するラピッドシニングプロセスを提案しています。この革新的な組み合わせは優れた表面品質を実現するだけでなく、高い加工レートを保証し、CMPプロセスへのスムーズな移行が求められる用途に適しています。 背面は自己粘着テープとなっているため、IRINO-PROSiCは既存の金属定盤に簡単に貼り付けでき、SiC研削工具の使いやすさと効率を高めます。IRINO-PROSiCは、優れた表面品質と高い加工レートのどちらを求める場合でも、高度なSiC加工に最適な製品です。 【特徴】 ■Rapid Thinning プロセスに適した革新的な研削パッド ■SiCの研削に最適 ■Ra 1 nmレベルの面仕上がり ■従来の研削プロセスと比較して高い競争力 ■エッジの面ダレを起こさないフラットな仕上がり ■フラットな定盤の片面/両面研磨機にて使用可能(ドレス必須)

• その他研磨材

高い研削性・高寿命・ほぼ全ての冷却潤滑材（クーラント）に対応したメタルボンド仕様の研磨パッド

セラミックスやガラス、各種金属などのワークの研削加工におすすめの研磨パッドです。メタルボンドで固定されたダイヤモンド砥粒により、高い研磨レートを維持します。高い研削性を維持し、高寿命であることに加え、メタルボンド仕様のため、ほとんどすべての冷却潤滑材（クーラント）に対応しています。 【特徴】 ■サファイアも研磨可能な高い研削性 ■常に平面かつ精密なエッジ ■研磨紙やスラリーより経済的 ■スラリー不要のため環境に配慮されている ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。

• 砥石

サブミクロンサイズの凝集しやすいダイヤモンドでも、独自の凝集フリー加工技術で、スクラッチフリー&再現性の高い研磨を実現！

『リキッドダイヤモンド GAF』は、当社独自のGAF（凝集フリー加工）技術によって脱イオン水中に分散された高濃度液体ダイヤモンドです。ポリッシング用の水溶性ダイヤモンドスラリーを調合する際に、ダイヤモンドパウダーの代替として使用します。1ミクロン以下の極小サイズのダイヤモンドを扱う際にスクラッチが発生するリスクを防ぐことができます。 【特長】 ■スラリー調合作業が劇的に簡素化 　手間のかかるサブミクロンダイヤモンドの分散作業が不要で、時間もコストも節約できます。 　必要とするスラリー濃度に合わせて、簡単に計測できます。 ■再現性の向上 　ダイヤモンドの確実な分散によって、スクラッチフリーな研磨加工が常に維持できます ■環境に優しい 　分散剤や界面活性剤のような化学的な添加剤を使用しておりません。 　※バクテリア等による汚染防止目的の殺菌剤が配合されています。 　スラリー作成工程で発生するダイヤモンド粉埃の掃除が不要になります。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 砥石

トルンプは、12月3⽇（⽔）〜5⽇（⾦）開催の「VACUUM2025真空展」に出展いたします。 プラズマ発生に欠かせない電源ソリューションの情報収集にお役⽴ていただければ幸いです。弊社ブースへのお⽴ち寄りを⼼よりお待ちしております。 【トルンプ出展のみどころ】 プラズマ発生に欠かせない高周波電源、インピーダンスマッチングに必要な整合器、産業用加熱炉に必要な誘導加熱用電源をご紹介します。 ■電源装置展示 高周波パルス電源「TruPlasma Highpulse 4002 G2」 ■パネル展示 ・プラズマ発生用電源 TruPlasmaシリーズ ポートフォリオ ・任意波形発生用電源 TruPlasma Bipolarシリーズ ・TGV（Thin Glass Via）向け、Hi-Pulse/RF電源 皆様のご質問やご相談にトルンプ社員が対応します。お気軽にお⽴ち寄り・お声がけください。

[講　師] 在ロンドン国際ジャーナリスト 木村 正人 氏 [重点講義内容] アマゾン河口のブラジル北部パラー州ベレンで開かれた国連気候変動枠組み条約第30回締約国会議（COP30）。注目を集めた脱化石燃料ロードマップでは分断が白日のもとにさらされ、主な成果は適応資金を3倍の年1200億ドルにすることだけ。しかも期限は2030年から35年に先延ばしされ、努力目標とされた。 「アマゾンのリーダー」の演出を最優先にした議長国ブラジルのリーダーシップ欠如、米国不在、財政難の欧州失速、中国の自国利益第一主義が分断を助長した。先進国と途上国の南北対立が激化する中、国連の多国間主義は機能不全に陥りつつある。 [講演項目] １．開催地ベレン ２．浮き彫りになる分断 ３．米国不在 　-ビッグテックと化石燃料企業は米全土にデータセンターを展開 ４．存在感増す中国 　-新しいエネルギーのエコシステム：太陽光発電、蓄電、水素 ５．化石賞の常連国になった日本 　-CCS（二酸化炭素回収・貯留）、水素・アンモニア混焼 ６．先住民族の反乱 ７．質疑応答

[講　師] みずほリサーチ＆テクノロジーズ株式会社 サステナビリティコンサルティング第１部 マネジャー 桐原 貴大 氏 [重点講義内容] 2025年2月「GX2040ビジョン」が公表された。近年の国内GX政策はGX推進法やGX移行債に代表される通り、GX製品等の供給を支える対応が中心であったが、同ビジョンでは、これらの市場原理だけではカーボンニュートラルの実現が難しい現状を踏まえ、購入側の企業がGX製品を選択する需要喚起策も重視している。 今後、GX市場創造に向けた施策が講じられることが予定されるなか、拡大が予想されるGX市場の獲得に向けて、企業が取り組むべき対応を考察する。 [講演項目] １．国内のGX政策の概要とGX政策における 　“GHG排出量の見える化”の位置づけ ２．海外の“GHG排出量見える化”に関する政策の概要 ３．GHG排出量の見える化に関する最近の動向 ３．１　GHG排出量算定における企業間のデータ連携に関する動き ３．２　GHG排出量の新しい指標；削減実績量 ４．企業が取り組むべき対応 ５．質疑応答／名刺交換

[講　師] 株式会社ＣＩＮＣＡ 代表取締役社長 阿部 拓貴 氏 [重点講義内容] 「新規事業のタネが見つからない」 「行き当たりばったりで、新規事業の立ち上げが進まない」 多くの企業が直面するこの課題は、ノウハウが個人の経験に依存し、再現性のある「型」として社内に定着しないことが大きな原因です。 ＣＩＮＣＡは新規事業の０→１に特化し、その経験を通じて再現性ある立ち上げノウハウを確立してきました。本講演は、『新規事業開発を成功に導く 超実践０→１攻略ガイド』の著者である阿部拓貴氏が登壇。生成AIを活用した再現性ある事業検証の進め方について、実践的なテクニックをお伝えします。新規事業の立ち上げにお悩みを抱えている方は、ぜひご参加ください。 [講演項目] １．新規事業の全体像 ２．成功確度の高い事業アイデアの生み出し方 ３．課題発見・価値検証インタビューの実践 ４．質疑応答

[講　師] 株式会社三井物産戦略研究所 技術・イノベーション情報部 シニアマネージャー 辻 理絵子 氏 [重点講義内容] ヒューマノイドロボット（人型ロボット）産業を俯瞰するうえで基本となる項目から最新動向までをまとめてお伝えします。 OpenAIやNVIDIAといった大手企業がヒューマノイドロボットスタートアップに投資するなど、本領域への注目が高まっています。AI技術の進化と共にロボットの制御精度が飛躍的に向上しており、本格的な社会実装を目指して、物流倉庫、自動車工場などでの実証実験が進む状況を踏まえ、ヒューマノイドを語るうえで押さえたい、投資状況や技術進展、関連企業、また、ヒューマノイドの浸透により拡がる産業への影響等について講演します。 [講演項目] １．ヒューマノイドとは ２．ヒューマノイド開発企業と現在の実力、実装状況 ３．ヒューマノイド領域に集まる投資 ４．ヒューマノイドを支える技術の進展 ５．ヒューマノイド関連企業と生まれる産業インパクト ６．ヒューマノイドにおける各国の取り組み ７．ヒューマノイドの未来展望 ８．質疑応答／名刺交換