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2025/03/18

「MEMS Engineer Forum 2025」 - 技術展示のお知らせ

プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社 プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
2025年4月16日~17日に開催される「MEMS Engineer Forum 2025」の技術展示コーナーに出展致します。 <展示内容> 1 高密度ラジカルによる低温・低ダメージエッチング・クリーニング装置の紹介 特許取得済みのHDRF技術により、MEMSの歩留原因を取り除きます。 2 これからの高周波デバイスや高速光変調導波路加工に不可欠な加工技術(イオン・ビーム・エッチング)の紹介   多層構造物の加工に最適なイオン・ビーム・エッチング。加工面の角度調整、側壁の粗さ調整が可能です。  3 化合物半導体のバッチ処理に適したプラズマ・エッチング、成膜装置の紹介   「シャトル」(ウエハキャリア)に複数枚のウエハを搭載し、バッチ処理が出来ます。少量量産に適した装置。 ご来場お待ちしております。
開催日時 2025年04月16日(水) ~ 2025年04月17日(木)
10:00 ~ 16:00
会場 東京・両国 国際ファッションセンタービル(KFC Hall)
参加費 無料
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MEMS Engineer Forum - 技術展示のお知らせ

MEMS加工の精度と効率を向上!高精度エッチング・成膜技術をご紹介いたします。 ※4月16日 ~ 4月17日開催

プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社は、東京・両国 国際ファッションセンタービル(KFC Hall)にて開催される 「MEMS Engineer Forum 2025」の技術展示コーナーに出展致します。 <展示内容> 1.高密度ラジカルによる低温・低ダメージエッチング・クリーニング装置  特許取得済みのHDRF技術(High density radical flux)により、MEMSの歩留低下原因を除去。 2.これからの高周波デバイスや高速光変調導波路加工に不可欠な加工技術(イオン・ビーム・エッチング)    多層構造物の加工に適したイオン・ビーム・エッチング。ウエハステージのチルト機構により、側壁角度の調整が可能。  3.化合物半導体のバッチ処理に適したプラズマ・エッチング、成膜装置  「シャトル」(ウエハキャリア)に複数枚のウエハを搭載し、バッチ処理が出来ます。少量産に適した装置。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 ※装置のカタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。

  • エッチング装置

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高密度ラジカルクリーニングソリューション『KAYEN、ODYSSEY』1.JPG

高密度ラジカルクリーニングソリューション

他社の同様の技術に比べ50~100倍ものラジカルを生成し、ダメージのないプロセスを提供!

高密度ラジカルクリーニングプロセスは、繊細なデバイスや複雑な構造を 損傷することなく、フォトレジストやポリマーなどの残留物を、 完全に除去することが可能です。 さらに、医療用インプラント応用など精細な構造物に対しても リモートプラズマを用いた独自のプラズマソースにより、ウェットプロセスでは 完全な除去が不可能であった残留物の除去が可能。 また、高密度ラジカルフラックスによる複雑な形状の高温のみならず、 低温でのプロセッシングができます。 【特長】 ■広い温度範囲での柔軟な処理が可能 ■選択比及び均一性の高いプロセス ■複雑な形状のサンプルを完全にクリーニングする性能 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

  • その他受託サービス

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強誘電体イオンビームエッチングソリューション『QuaZar』

不活性ガスArエッチングと反応性ガスによるエンハンスドRIBEが可能!

『QuaZar』は、大面積イオンソースと高度なモーションコントロールにより、 強誘電体PZTなどの難削材のエッチングプロセスにおいてプラズマエッチング では実現困難な垂直エッチング性が実現可能なエッチングプロセッシングです。 独自のIon Source、Marathon Grids、Dual PBN(オプション)の採用により、 従来品と比較しMTBMを3倍に(他社の既存装置にも搭載可能)。 また、REDEP Breaker, AUXILIARY Electrodeにより、RFシャント・ アノード消失を防止します。 【特長】 ■PZTエッチング応用では、EPDなしで貴金属電極層でエッチストップが可能  (サイドウォールにおける析出なしで、かつスムーズな表面) ■PZTエッチングにおけるフォトレジストに対する選択性は、不活性IBEの  0.6:1から、RIBE:1.1:1に向上 ■PZTエッチング速度は、不活性IBEの約20nm/minから、RIBEでは  約30nm/minに向上 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせください。

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ニュース

「第1回 [名古屋] 高機能プラスチック展 ーPLASTIC JAPANー」出展のお知らせ

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当社は、ポートメッセなごやで開催されます「第1回 [名古屋] 高機能プラスチック展 -PLASTIC JAPAN-」に出展いたします。 当社のカーボンナノファイバーについて様々な樹脂に配合したサンプル・特性をご紹介いたします。導電用カーボンナノファイバー(高分散)ALP-NK1(550W/mK)も製品ラインナップに加わり、放熱材料用途をはじめとしてお客様のご要望に合わせた材料をご提案させて頂きます。また、カーボンナノファイバー配合PEEKを押出成形した丸棒およびその加工品や、当社設計の電池材料用ドクターブレードも展示いたします。 ナノマテリアル事業のビジネスモデルといたしましては、お客様のご要望に応じてCNFパウダー等での販売あるいは樹脂配合品(ペレット・液状樹脂)での試作・販売を行っています。更に、高容量リチウムイオン二次電池の電極用材料として注目されています一酸化ケイ素をはじめ、各種シリコン材、マグネシウムボールなどもご紹介いたします。化合物、合金、純度、粒度、形状など各種ご要望を承りますので、是非ブースへお立ち寄り頂きご相談ください。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。

2026年01月19日

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【2026年1月29日(木)~1月30日(金)】Fukushima Tech Create 2026 成果発表会出展のお知らせ

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弊社は、 福島県大熊町で開催される『Fukushima Tech Create 2026 成果発表会』に ブース出展いたします。本イベントでは、福島県浜通り等で起業や技術開発を目指す 新進気鋭のスタートアップ企業が研究・事業成果を発表します。 ★参加企業分野 廃炉 / ロボット・ドローン / エネルギー・環境・リサイクル 農林水産業 / 医療関連 / 航空宇宙 29日(木)は、著名人と地元起業家によるトークイベントも開催されます。 未来を創る注目の技術が集結しますので、お越しの際はぜひお気軽にIIDA ブースへお立ち寄りください。 【有限会社飯田製作所 福島第2工場】 〒969-1204 福島県 本宮市 糠沢字水上21-2 TEL:0243-64-2320 FAX:0243-64-2571

2026年01月19日

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2026/05/20 ◆実験計画法&非線形実験計画法セミナー

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開発の質と効率を向上する汎用的インフォマティクス&統計的最適化 ~プログラミング不要のAIを使った非線形実験計画法と実験計画法~ 【希望者にソフトウェア・検討テンプレート提供】 ----------------------------- https://www.rdsc.co.jp/seminar/260509 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 受講料割引がある今後の技術セミナーを連絡させていただきます。 受講料割引にて各セミナーを申込みされたい場合は、 ikuma.fukui@wmjplab.comまで、お問合せください。 ※受講料割引は、どなたでも使用できます。 ※ただし、技術コンサルタントや講師業の方は、受講をお断りしております。 ※同セミナーの社内研修をご希望の場合、小職に直接ご依頼下さい。 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

2026年01月18日

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【2/18-20 | 名古屋】高機能素材Week内 第1回 モビリティマテリアル展

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弊社は、「高機能素材Week内 第1回 モビリティマテリアル展」に企業展示いたします。皆様のご来場を心よりお待ちしております。

2026年01月16日

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【セミナー】NTTドコモビジネス イノベーションセンターの 取組みと2030年への展望

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[講 師] NTTドコモビジネス株式会社 イノベーションセンター 副センター長 池尻 雄一 氏 [重点講義内容] NTTドコモビジネスは、NTTグループの中で統合ICT事業の法人事業を担っている。グループ全体のソリューションをワンストップで法人顧客に提供し、大企業や地域中小企業の支援を通じて社会課題の解決、産業・地域DXのプラットフォーマーを目指している。 その中でイノベーションセンターは、新たなビジネスの種を探索し、育てることで、新しい事業の創出と社会実装を牽引する役割を担っている。本講演では、イノベーションセンターが推進する先端技術、AIやIOWNを活用した新しい事業の創出に向けた取組みをご紹介したい。 [講演項目] 1.NTTドコモビジネス/イノベーションセンターについて 2.2030年を見据えたテクノロジーロードマップ 3.オープンイノベーションによる新規事業創出 4.デザイン思考で推進する価値創出 5.AI、IOT/OT、IOWN等先端技術を活用した事業創出への取組み 6.質疑応答/名刺交換

2026年01月16日

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