【2025年12月17⽇（⽔）〜19⽇（⾦）】SEMICON Japan 2025出展のお知らせ

プロセスモジュールの設置面積が小さく、スマートなウェーハ処理と連携可能【MEMSセンシング＆ネットワークシステム展2026出展】

オゾンでのレジスト剝離は既に20年以上研究開発がなされてきましたが、 分解・拡散しやすいオゾンをプロセスで使用するハードルが高く、 現在実用化されている方式は専用のオゾンプロセス装置が必要です。 Siconnexでは独自のBATCHSPRAY技術により、エッチングや洗浄等の 他のウェットプロセスと同じ装置でオゾンレジスト剝離プロセスが可能です。 そのため一台で複数プロセスを実施でき、省スペースかつ プロセスインテグレーション可能なソリューションを提供できます。 【特長】 ■オゾンと水のみでレジスト剝離が可能 ■高濃度オゾン水ではないため、特殊な仕様は不要 ■エッチングなど他のウェットプロセスと統合し、ウエハを移動させずに複数の処理工程を実施できる ■オゾン以外のケミカルを使用せずランニングコスト低減 ■オゾンは分解しやすいため、産廃コストも低減 ■レジスト変質により除去が難しい場合には無機ケミカルの添加により強化可能 ■設置面積2m2未満 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

有機溶剤を使わずにドライエッチング後の樹脂残渣を除去！

ドライエッチング後に側壁（サイドウォール）に残ったポリマー残渣は従来、有機溶剤系のケミカルで除去されてきましたが、環境・安全など、サステナビリティの観点から調達が困難になりつつあります。Siconnexでは、半導体ファブで一般的に使用される無機ケミカルを使用してドライエッチング後のポリマー残渣を除去する『perc（Post Etch Residue Clean)』プロセスを開発しました。 【特長】 ■無機ケミカルにてポリマー残渣を除去 ■ケミカルコスト・産廃コストの削減が可能 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムと組み合わせてエッチングやレジスト剝離も一台で可能 ■25枚または50枚ウェーハを1バッチで処理可能なチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

オゾンで過酸化水素を置き換え！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】半自動装置

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■従来のRCA洗浄につき、過酸化水素の代わりにオゾンを使用することでケミカルコストを低減 ■高濃度オゾン水ではないため、特殊な仕様は不要 ■エッチングやレジスト剥離など他のウェットプロセスと統合し、ウエハを移動させずに複数の処理工程を実施できる ■オゾンは分解しやすいため、産廃コストも低減 ■設置面積2m2未満 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。またすべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物質の混合、エンドポイント検出（EPD）、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジストストリップを同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上するだけでなく、処理ステップを減らすこともできます。 【特長】 ■最大300wphのスループット ■2つのプロセスチャンバー ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式ウェットプロセス装置】半自動装置

当社の半自動装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積2m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■sic/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

プロセスモジュールの設置面積が小さく、スマートなウェーハ処理と連携可能【MEMSセンシング＆ネットワークシステム展2026出展】

当社の有機洗浄装置は、高性能、効率的な化学物質の再循環、 設置面積の最小化、スペース効率の最適化で際立っています。 【特長】 ■最大150wphのスループット ■設置面積2平方メートル未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■SiC/GaNでプロセス実行可能 ■25枚または50枚ウェーハのチャンバーを使用可能 ■抽出可能なプロセスチャンバー ■ATEX安全規格 【展示会出展情報】 展示会名：MEMSセンシング＆ネットワークシステム展 2026 日時：2026年1月28日（水）~30日（金） 小間番号：2W-D37 オゾンプロセスや複数ウェットプロセスのインテグレーションなど、 ウエハプロセスにおけるさまざまなメリットをご紹介いたします。 ウエハプロセスの導入・見直しをご検討中の方は、ぜひ当社ブースへお立ち寄りください。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

この2チャンバーシステムは、ポリマー残渣やレジスト剝離向けの有機溶剤系ケミカルに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物質の混合、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。 有機溶剤中の水分濃度の自動管理が可能です。 【特長】 ■最大300wphのスループット ■2つのプロセスチャンバー ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■SiC/GaNでプロセス実行可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向けウェットプロセス装置】全自動装置

この4チャンバーシステムは、使用時点での混合化学物質を特許取得済みのリテーナーコーム処理システムと組み合わせて優れたプロセス結果を実現することを特徴としています。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジスト剥離のようなサステナブルなプロセスを行うことで、ケミカルや脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。常に新しいケミカルをチャンバに供給するため、浴液劣化によるロットの処理ばらつきをなくし、高精度のプロセスを安定的に行うことが可能です。 【特長】 ■ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄プロセス向け ■最大600wphのスループット ■4つのプロセスチャンバー ■設置面積12m2未満 ■ケミカルを低濃度で使い切り ■硫酸や過酸化物は必要なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】全自動装置

この2チャンバーシステムは、優れたエッチングの均一性を提供するだけでなく、化学物質を節減します。そして、すべてのタイプのウェットエッチングプロセスに対応しています。 高い精度のタンク内における化学物質の混合、終点検出（EPD）、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムが含まれています。さらに、SicOzoneレジスト剥離を同じチャンバーに適用でき、これにより柔軟性が向上し、処理ステップを減らすこともできます。 【特長】 ■最大300wphのスループット ■ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄プロセス向け ■2つのプロセスチャンバー ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによるケミカルの循環再利用 ■SiC/GaNでプロセス実行可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減

当社は、半導体チップ製造プロセス（ウェットエッチング・レジスト剝離・洗浄）装置の製造メーカーです。 スループット最大600wphの「BATCHSPRAY Clean Autoload」や タンクシステムによるケミカル循環方式を採用した「BATCHSPRAY Solvent Autoload」 など様々な製品を取り扱っております。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【Siconnex(サイコネックス)が選ばれる理由】 ■BATCHSPRAY技術に100％フォーカス ■水・排気・化学品を大幅に削減 ■コスト効率が高く、環境保全に対応したプロセス ■充実したサポート体制(サービス、パーツ、プロセス) ■無償の年次装置点検、トレーニング、電話サポート、及び初年度定期 　メンテナンス等のパートナーシップアプローチ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

BATCHSPRAY技術に100％フォーカス！水・排気・化学品を大幅に削減【半導体業界向け湿式化学装置】

この3チャンバーシステムは、特許取得済みのリテイナーコーム処理システムを使用することで、あらゆるタイプのウェットエッチングプロセスと洗浄アプリケーションに対応しています。酸/洗浄の組み合わせにより、高いプロセスの柔軟性と高いスループットを達成できます。過酸化物や硫酸の代わりにSicOzoneを使用して洗浄やレジストストリッピングのようなサステナブルなプロセスを行うことで、化学物質や脱イオン水の消費を最大90%節減することができます。 【特長】 ■最大400wphのスループット ■2つの洗浄プロセスチャンバー ■ばらつきが1％未満の均一性 ■設置面積12m2未満 ■タンクシステムによる化学物質の再循環 ■EPD-End Point Detection ※詳細はカタログをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

次世代ダイカスト技術 Webinar Week 2026において、下記のとおりセミナーを実施いたします。 軽量化、強度、冷却性能、生産効率向上など、昨今の自動車業界においても非常に重要な役割を果たすダイカスト工程。 型温管理による不良品や金型寿命など課題をお持ちではありませんか。 非接触タイプの金型表面温度モニタリングシステムが、品質の安定性やトレーサビリティの正確性、コスト削減を実現します。 ぜひ事例とともにご参考ください。 日時： 2026年7月6日（月）13:30～13:55 講師： マーポス株式会社営業技術部プロダクトマネージャー 対象： ・ダイカスト製品及びダイカストマシンを扱う方 ・ダイカスト金型の表面温度管理に課題をお持ちの方 ・ダイカスト工程のトレーサビリティを改善したい方 ・ダイカスト工程でコスト削減に取り組みたい方 申し込み：詳細・申し込みボタンより、ご登録ください。 * 当イベントへのお申し込みには招待コード（無料）が必要です。 以下の招待コードをお申し込みサイトにてご入力ください。 招待コード：K3994296

[講　師] 株式会社日本総合研究所 先端技術ラボ アナリスト 會田 拓海 氏 [重点講義内容] 自動運転技術は、カメラ、レーダー、LiDARといった多様なセンシングデータを基にルールベースのアプローチによる車両制御の高度化を中心に発展してきた。近年では、認識から制御までをAIが統合的に学習するEnd-to-End型アプローチも進展している。海外では米国や中国を中心に無人タクシーや自動運転トラックの商用化が進む一方、日本での取り組みは実証段階に留まる。 また、自動運転の普及はモビリティの提供形態を「所有」から「サービス利用」へと変化させ、金融サービスの在り方にも影響を及ぼしつつある。運行データや稼働率を前提としたビジネスモデルの広がりにより、金融機関における関与の形態も多様化が見込まれる。 本講演では、自動運転技術の概要と最新動向を整理するとともに、国内外のユースケースを踏まえ、社会実装に向けた課題と金融サービスの在り方を含めた活用促進の方策について考察する。

[重点講義内容] 一．不確実性の高まる国際社会における海底ケーブルを取り巻く環境の変化 PwCコンサルティング合同会社 PwCインテリジェンス シニアアソシエイト 榎本 浩司 氏 二．ハイパースケーラーの台頭と国際通信インフラの変遷 ～需要構造の変化に応える海底ケーブルシステムの最新動向～ 日本電気株式会社 海洋システム事業部門 事業開発統括部 事業戦略グループ ディレクター 村上 求 氏 三．将来の海底ケーブルにおける大容量光ファイバ伝送と光ファイバセンシング 国立研究開発法人情報通信研究機構（NICT） ネットワーク研究所 フォトニックICT研究センター フォトニックネットワーク研究室 室長 古川 英昭 氏

[講　師] （株）リーディング・イノベーション 代表取締役社長 シニア・コンサルタント 芦澤 誉三 氏 [講演項目] １．常識という固定観念と一般的な新規事業テーマ探索の進め方 ２．ユニークな事業を生み出すもっとも確実な方法 ３．テーマ探索の進め方に影響する事業の特性分類 ４．価値の差別化デザイン ５．ユニークな新規事業を生み出す再現性ある進め方 ６．組織への定着化の重点 ７．質疑応答

日時 ： 2026年7月23日 (木)　14:30 – 17:00 Signals Notebookは、化学、生物学、製剤、素材、分析、食品といった多岐にわたる研究分野で活用され、将来的にも長く使い続けることができるように1から設計された、唯一のクラウド型電子実験ノートです。 この機会にぜひご参加いただき、ご自身の目で見て、手で触れて、Signals Notebookの機能をご体感ください。 ＜内容＞ ・　反応スキームや試薬情報を含む実験ノートの作成 ・　収率・条件・結果データの構造的な記録と検索 ・　ラボメンバーとのノート共有・コメント・承認フロー ・　化合物データベース（弊社取扱サービス）のご紹介 ・　Q&A 詳細はこちら（ヒューリンクスのページへ） https://www.hulinks.co.jp/seminar/signals-snb-handson/