雑誌会 シルセスキオキサンを改めて『知る』
シルセスキオキサンの処理温度と分子構造と誘電率などの物性の関係についてのお話です。
合成した新規シルセスキオキサンは処理温度が100℃⇒200℃⇒300℃と高くなるにつれ、誘電率も誘電正接も小さくなったようです。
詳しくは、下記関係リンクへ
https://banyohkagaku.co.jp/infodetail?wgd=news-162&wgdo=date-DESC,sort-ASC

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昔自ら行ったシルセスキオキサンの研究についても少しばかり言及しております。



