装置寸法：560W×850D×1300H
基板をマニュアルでチャックにセットし、スプレー現像、リンス、スピン乾燥します。
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基本情報
【特徴】 ■装置寸法 1700W×1300D×1400H ■ワークサイズ ウェハー φ4″～φ8″ マスク □4″～□6″ ■オプション 薬液供給ユニット □その他詳細についてはカタログをご覧ください
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企業情報
株式会社カナメックスは設立以来、半導体業界における、フォトリソ関連のウェット処理プロセス装置の設計・製作をしてまいりました。今日のエレクトロニクス業界は半導体前工程／先端実装技術／FPD分野において、デバイス基板はますます薄型化、大型化、高次元化し、さらに高機能化するデバイスの製造プロセスに対応する創造性のある製造装置が求められています。 弊社は、このような業界のニーズに対応する為、常にお客様と共にあり、顧客満足度の向上を図り、常に研究開発マインドを持ち続け、業界のニーズに合った製品とサービスを提供できるよう創造性のある技術を構築します。そして、活性化のある企業活動を経営理念とし、社会の発展に貢献できるよう努力してまいります。
