リンス、乾燥を専用のチャンバーで行うことにより、精密洗浄が可能
カセットをローダーにセットし、耐薬仕様のクリーンロボットにて基板の搬送を行います。 チャンバーＡでケミカル処理、チャンバーＢでリンス、スピン乾燥し、アンローダにセットしたカセットへ収納する、枚葉自動マルチスピンプロセッサーです。
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基本情報
スイングアームの仕様は、ケミカル、ブラシ、2流体ジェット、メガソニック等の各種処理アイテムの中から各チャンバー2系統お選び頂けます。本体両側面に薬液供給タンク又は廃液タンク(20L)を2本内蔵可能 【特徴】 ■装置寸法 2700W×1500D×2000H (200WCBT) 3000W×1500D×2000H (300WCBT) ■ワークサイズ ウェハー φ4″～φ8″（300WCBTはMAXφ12″) マスク □4″～□6″（ 同 MAX□9″) ■オプション ワーク反転機構 FOUPロードポート対応 レチクルケース対応 SMIF POD対応 オリフラ／ノッチ合わせ機構 イオナイザー オゾン水供給ユニット 高圧ポンプユニット 薬液供給ユニット 機能水供給ユニット エキシマUVユニット 帯電防止器 □その他詳細についてはカタログをご覧ください
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企業情報
株式会社カナメックスは設立以来、半導体業界における、フォトリソ関連のウェット処理プロセス装置の設計・製作をしてまいりました。今日のエレクトロニクス業界は半導体前工程／先端実装技術／FPD分野において、デバイス基板はますます薄型化、大型化、高次元化し、さらに高機能化するデバイスの製造プロセスに対応する創造性のある製造装置が求められています。 弊社は、このような業界のニーズに対応する為、常にお客様と共にあり、顧客満足度の向上を図り、常に研究開発マインドを持ち続け、業界のニーズに合った製品とサービスを提供できるよう創造性のある技術を構築します。そして、活性化のある企業活動を経営理念とし、社会の発展に貢献できるよう努力してまいります。
