配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止してポンプ性能を延命させます。
半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。
この製品へのお問い合わせ
基本情報
ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バルブ閉塞の問題が発生しています。当製品は、問題の発生原因の一つとなるポンプ直後（或いはポンプ内部）の配管内部に局所的に高温のＮ２ガスを流してやる事でこれらの問題を軽減し従来のポンプライフを向上させ、装置の安定稼働率を向上させるツールの一つになります。導入も簡単で、既設のＮ２導入口があればそれを活用でき、排気配管の途中に組み込む事も出来ます。某ポンプメーカーでもオプション採用され特定ユーザー向けに指定仕様にもなっていますので効果は必ず出ると思われます。ヒーターの漏電検出機能は内蔵されており漏電ブレーカ等を使わなくても最低限の安全対策は施されております。窒素流量は標準で３０～５０Ｌ／分、温度１００～２００℃、入力ＡＣ２００Ｖ ３００Ｗ、Ｎ２温度・流量監視、ヒーター本体内外部温度監視、エラーメッセージはＬＣＤ表示されます。以上の設定値はお客様のご要望により仕様変更に対応しております。その他、大量粉体に対応したタイプもございます。（液晶・太陽電池向け用途）
価格帯
50万円 ~ 100万円
納期
~ 1ヶ月
用途／実績例
ＣＥＮＴＵＲＡ（ＣＶＤ／ＥＴＣＨ）、ＣＯＮＣＥＰＴ２、M３０８などのポンプ直後で、デポ物堆積が低減、真空ポンプのライフ向上、排気管のトラブル減少、バルブ閉塞のトラブル減少など、使用前後で２～５倍以上の効果あり（実績ベース）。
企業情報
社名：エヴァンリード株式会社 資本金：１１００万円 本社：東京都品川区西品川1-1-1 住友不動産大崎ガーデンタワー9階 事業概要： １）半導体製造装置（３インチから１２インチ）のコストダウンサービス全般の設計、開発、製造、販売 ２）ステンレス代替え材料（エレベータ、エスカレータ向け）の販売 リノペック社の正規国内総販売会社
