ICPタイプのRF高密度プラズマにより各種原料ガスを処理し、成膜実験、エッチング実験等にご使用頂けます。
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。
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基本情報
【特徴】 ○ビューイングポート付により放電が目視確認できます。また、高精度のプラズマ分光等が可能です。 ○自動マッチング機構により、操作が簡単かつ長時間安定な動作が可能です。 ○空冷仕様になっており冷却水の心配がなく、既設装置等へ気軽に取り付けられます。 ○窒素ラジカル原子のスペクトルデータを確認しており、窒素ラジカル源としてご使用頂けます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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1972年、初代社長堀田が自宅の玄関先を作業場に 大誠産業株式会社を設立して以来、技術開発、 研究開発の仕事に打ち込んでまいりました。 当初は、気象研究所のポラックカウンタなどの開発に携わり、 空気を科学する仕事から始まりました。 その後、リークデテクタのメンテナンスサービスを 始めるなどして、次第に真空の世界に仕事を広げて行きました。 創立10年頃から超高真空の仕事が増え始め、 創立15年頃には小型の装置を製造できるようになりました。 現在、仕事の守備範囲は格段に増え、超高真空、 MBE、CVD、ECR、RFラジカル源など単に真空装置に止まらず、 各種のプラズマ、イオンあるいは電子を利用した 機能部品の開発を進めております。 今後、真に先端技術の世界で通用する 小企業を目標にしたいと考えております。