研究開発用途から生産まで幅広いニーズに応える マニュアルスピンコータ、マニュアルスピンデベロッパ
リソスピンカップシリーズは、マニュアルでありながら自動塗布/現像装置と同等のスピンユニットを採用しているため、オートディスペンサ、各種リンス、廃液自動回収、カップ排気等に標準で対応しています。簡単かつ安全に高精度なレジスト処理が行えます。 また、プライマディスペンサ、薬液温調、ファンフィルタユニット、温度/湿度コントローラなど様々なオプションをご用意しており、高度な塗布処理/現像処理が行えます。 リソテックジャパンでは、基本的にお客様が使用される塗布薬液（レジスト、ポリイミド、絶縁膜等）やウェーハサイズおよび用途に合わせて設計・製造を行い、洗練された装置のご提供を行っております。
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基本情報
＜スピンコータ ＞ ■Litho Spin Cup 800C ・0.5インチウェーハから8インチウェーハまで対応 ・オートディスペンサ、エッジリンス/バックリンス標準搭載 ■Litho Spin Cup 1200C ・最大で300mmウェーハまで対応 ・化学増幅型レジスト対応仕様 ＜スピンデベロッパ ＞ ■Litho Spin Cup 800D ・最大8インチウェーハまで対応 ・オートディスペンサ、現像リンス/バックリンス標準搭載 ■Litho Spin Cup 1200D ・最大で300mmウェーハまで対応 ・有機現像仕様にも対応可
価格情報
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価格帯
1000万円 ~ 5000万円
納期
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用途／実績例
半導体フォトリソグラフィ工程における、レジスト塗布や現像に多く採用されています。
ラインアップ（4）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| Litho Spin Cup 800C | 8インチウェーハ対応スピン塗布装置 |
| Litho Spin Cup 1200C | 300ｍｍウェーハ対応スピン塗布装置 |
| Litho Spin Cup 800D | 8インチウェーハ対応スピン現像装置 |
| Litho Spin Cup 1200D | 300ｍｍウェーハ対応スピン現像装置 |
企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピンコータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。