±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。
露光解析ツール 位相シフト･フォーカス･モニタは±25nm3σ以内の高精度。フォーカス･マトリクスが不要です。既存のオーバーレイ計測器でフォーカス測定ができます。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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基本情報
【特徴】 ○±25nm3σ以内の高精度です。 ○フォーカス･マトリクスが不要です。 ○結果は露光量の影響を受けません。 ○既存のオーバーレイ計測器でフォーカス測定ができます。 ○データ収集が自動でできます。 ○統計的工程管理(SPC)や詳細な分析にも利用できます。 ○レンズの温度上昇、非点収差、フィールド･ティルトが評価できます。 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
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企業情報
リソテックジャパンは、創設以来リソグラフィのスペシャリストとして、レジスト露光/現像解析装置、レジストコータ/デベロッパ、リソグラフィシミュレータに加え、最先端リソグラフィプロセス向けに露光/現像材料評価等もご提供しております。 特にレジスト処理装置では、スピン塗布コータ、デベロッパ、ベーク（PEB)装置、膜厚測定等を様々な分野に適応させて、開発用実験装置から生産用全自動システムまでご要望に応じた最適な仕様をご提案しています。 例えば、極薄シリコンウェーハ / 各種化合物半導体 / 石英 / サファイヤ / 圧電基板(SAW)等の各種基板に対しての、ArFレジスト / EBレジスト / 高粘度厚膜レジスト / ポリイミド / 絶縁膜 / ワックス等の塗布装置やアルカリ / 無機/有機等の現像装置をラインナップしています。 その他に、HMDS処理 / 真空減圧ベーク / UV照射 / 高温ベーク処理等各種プロセスユニットを用意しています。