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The Carbon Sublimation Source - SUKO - was developed for growth of Si-C and Si-Ge-C alloys in silicon MBE. The SUKO provides a very clean and constant flux at a low deposition rate up to 2 Å/min. A maximum total layer thickness of 5 μm C with one filament is reported. 詳しくはカタログダウンロードよりご確認ください。
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企業情報
2015年5月28日に、VG Scienta社とOmicron NanoTechnology社が合併し、新たにScienta Omicron社としてスタートすることとなりました。シエンタ オミクロン株式会社は、日本の研究開発分野で本格的な貢献をする目的で、日本総代理店として設立いたしました。 VG Scienta社は、光電子分光の黎明期からその重要性に着目し、世界のトップブランドとして、多くの関連装置を開発し、市場に導入してきました。 Omicron NanoTechnology社は、超高真空技術を駆使した走査型トンネル顕微鏡（STM）、原子間力顕微鏡（AFM）、X線光電子分光分析装置（XPS）など、卓越した製品群を通じて最先端技術を市場に提供し続けてきました。 今後は、最先端の評価技術関連装置を提供することばかりでなく、充実したサービス、テクニカルサポートを提供することで、日本の科学と産業の発展に貢献することを使命としています。 私たちの評価技術にどうぞご期待ください。