高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に生成
『CCP-T60M/B2M』は、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する 平行平板型エッチング装置です。 プロセスガスからラジカルを選択的に生成し、低電子温度、高密度プラズマが 得られる60MHzパワーを上部電極に印加。 また、常に適切なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを 内蔵しています。 【特長】 ■平行平板型エッチング装置 ■高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現 ■プロセスガスからラジカルを選択的に生成 ■60MHzパワーを上部電極に印加 ■シーケンスプログラムを内蔵 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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基本情報
【その他の特長】 ■イオンエネルギーを高密度に制御するため2MHzを下部電極に印加（オプション） ■エッチング処理毎のクリーニング処理（O2）により、電極やチャンバー壁についた フロン系膜を除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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企業情報
KKEは平成三年創立以来、今日まで皆様方の御厚い御支援、御協力を賜り厚く御礼を申し上げます。創立以前は私自身が技術業務に専念しておりました。その当時の学んだ事を糧にKKEは皆様と共に育って参りました。特に規格商品を持たず真空技術分野の「開発、設計、製造」を中心に手掛け、時には「産、官、学」共に御協力させて戴き大変喜ばしい事と存じます。お客様個別の仕様内容に応じ「開発、設計、製造」に最後まで取り組む姿勢を持って御客様のニーズに対し適確な判断の下で今日まで進んで参りました。21世紀の最先端科学技術に対応できる技術、開発指向型の企業を目指し「物創り」で社会に貢献することによって皆様方と共に幸福となるように努力致します。今後ともKKEを宜しくお願い致します。