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フォトマスク洗浄装置|簡易型マスク洗浄装置TWC-302

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TWC-302

最終更新日:2023年04月28日

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「スクラブ洗浄+リンス」&「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装置

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。

    フォトマスクその他半導体製造装置
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フォトマスク洗浄装置|簡易型マスク洗浄装置TWC-302

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  • 「簡易型マスク洗浄装置 TWC-302」のホームページへ
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/techvision/product/

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基本情報

■主な特長 ・ワークの【スクラブ洗浄・リンス・乾燥】を一台の装置でスピーディーに実施。 ・スクラブ洗浄用特殊ブラシにてワークに傷を付けず、洗浄ムラなく精密洗浄可能。 ・縦型処理の為、ワークにストレスがかからない設計。 ・少量多品種、R&D用途の基板洗浄にも最適。 ・乾燥は、ホット純水乾燥。

価格帯

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用途/実績例

フォトマスク:半導体用、液晶用、有機EL用、薄膜デバイス用、ICパッケージ用、PWB用、FPC用、その他、板状基板等洗浄可

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株式会社テクノビジョンは、1987年9月創業以来、洗浄技術、組立技術をコアーに自社製品の開発、製造、輸出入業務に取り組んでおります。 今日のハイテク産業の中でお客様のニーズにお応えし、お客様の立場に立った視野で技術、製品、及びサービスの提供を目指していく所存でございます。

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