様々な金属の酸化膜や金属膜が「簡単に」・「短時間で」測定可能 ‼【 連続電気化学還元法】を用いた高性能な膜厚測定装置のご紹介！
株式会社サーマプレシジョンは、プリント基板を始めとして、半導体・ＬＣＤ・ＰＤＰ等主要電子部品の製造装置、検査分析装置の販売を通して日本国内の電子部品メーカー様へ最先端の技術を提供しております。 【酸化膜・金属膜厚測定機について】 PC-M1は連続電気化学還元法を用いて薄膜酸化膜厚、薄膜金属膜厚が容易に測定できる装置です。 【酸化膜測定可能金属】 [酸化膜測定について] ○銅：Cu2O CuO Cu2S ○錫：SnO SnO2 ○銀：Ag2O AgCl Ag2SO4 Ag2S 〇上記以外（アルミ等々）についてはご相談ください 各種Å（オングストローム）単位で測定します 【他分析器との比較】 PC-M1 他分析器 測定時間 数百秒 数時間 酸化膜種類の判別 可能 困難 金属間化合物の測定 可能 困難 設備費用 千万位内 数千～億 取り扱いやすさ 容易 困難 最小測定面積 mm² μｍ² 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【金属膜厚測定可能金属】 [金属膜厚測定について] ○金 ：Min40Å（0.004μm）～ ○銅 ：Min200Å（0.020μm）～ ○ニッケル：Min200Å（0.020μm）～ ○銀 ：Min200Å（0.020μm）～ ○錫 ：Min200Å（0.020μm）～ 【使用用途】 ・実装に伴う接続不良解析 ・鉛フリー化に伴うリフロー℃上昇時の酸化膜成長度合いについて ・錫銅の合金成長解析 ・他分析器で得られないS（硫化物）の解析 ・有機保護膜の有無確認 【分析品について】 ・リードフレーム ・実装前基板 ・実装後基板（NG品） ・ウエハー ・BGA（100μmボール） ・ボンディングワイヤ etc 【特徴】 ・非破壊タイプ ・測定時間が短い ・使用環境に制限がありません ・取扱上に危険性が無い ・Mil Spec 55110Eに準じている 【その他】 〇アルミニウム酸化膜他についてはパラメータ開発中 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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プリント基板を始めとして、半導体・ＬＣＤ・ＰＤＰ等主要電子部品の製造装置、検査分析装置の販売を通して日本国内の電子部品メーカー様へ最先端の技術を提供しております。業態は商社ながら「技術を語れる商社」として長年のレジスト塗布経験を活かし、様々な顧客に最適なソリューションをご提供し、これからも日本の電子部品産業に貢献して参ります。