2017年6月7日～9日【JPCA Show 2017出展のお知らせ】

めっき液の分析に不可欠な添加剤濃度測定！　添加剤二成分・三成分に対応（抑制剤・促進剤・レベリング剤）　大手添加剤メーカーに対応！

PWB・Wafer・その他電子部品用めっき液はもちろん、 配線めっき・Viafill・Damacine・Bumpなどの各種メッキに対応。 回転数のレンジを広げることで、より多くの新規添加剤を分析できます。 また、“Get Me Expert”機能により、現場サポートへすぐに連絡可能。 全世界のケミカルメーカーが市販している添加剤に対応しています。 【特長】 ■ ＰＷＢ・Ｗａｆｅｒ・その他電子部品用めっき液に対応 ■ 配線めっき・TSVめっき・Viafill・Damacine・Bump等の各種めっきに対応 ■ シリンジが最大4つになり多様なサンプル分析が可能 ■ 最大42サンプルまで自動分析が可能（V30モデル） ■ SE液や校正標準液の調製を自動化 ■ 多言語対応 ■ ガルバノスタット内蔵 ■ 参照電極のメンテナンス性向上 ■ 下記ケミカルメーカーの添加剤に対応 アトテック/石原ケミカル/上村工業/奥野製薬工業/ダウ・ケミカル/マクダーミッド/メルテックス/ADEKA/EEJA/JCU etc. ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置

解像力とアライメント精度を高め、量産プロセスに対応可能。UV-LED光源を採用し、ランニングコストを低減します

『CMS（Cerma Micro Stepper）-Ck』は、650×550mmの フルサイズ基板に対応した、微細パターン露光が可能な投影露光装置です。 標準光源として、UV-LED光源を採用。 解像力（L/S）が2μmのインターポーザーをはじめ、 高精細・高精度・高生産性を要求される用途に適しています。 【特長】 ■L/S＝1.4/1.4μmからの量産プロセスに対応 ■ダイバイダイアライメント＆グローバルアライメント方式 ■チップファースト工程にも対応可能 ■ショット毎チルト機構搭載により歩留まり向上 ※詳しくは資料をご覧ください。また、当社では製品を実際に評価いただける 　クリーンルームも完備。デモをご希望の方はお気軽にご連絡ください。 （ラミネート・塗布、現像の周辺プロセスを含めて対応可能です）

• その他

akrometrix社製の様々な基盤反り測定装置のラインナップをご紹介します！全4種類

◆TherMoiré PS200S 【特徴】 ・下側加熱仕様 ・測定視野 200mm×200mm ・反りデータ取得時間 約2秒 ・オプション DIC2.0搭載可能 ◆TherMoiré PS600S 【特徴】 ・大型基板に対応 ・測定視野 600mm×600mm ・反りデータ取得時間 約2秒 ・オプション DFP2、DIC2.0搭載可能 ◆Table Top Shadow Moiré 【特徴】 ・テーブルトップ式 常温検査装置 ・測定視野 300mm×300mm ・反りデータ取得時間 約2秒 ◆Table Top DFP 【特徴】 ・実装品 常温検査装置 ・測定視野 192mm×240mm ・反りデータ取得時間 約1秒 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他計測・記録・測定器

お客様の測定アプリケーション（サンプル）にあった測定方法が選択が可能です。実装品、ひずみ、冷却した場合など様々な条件で測定可能！

DFPモジュール（AXP）は、シャドウモアレでは測定できなかった、段差のある製品、はんだボール付きPKG・ザグリあり基板などの連続していない平面（アイランド状）のものが測定可能です。 ガントリーフィクスチャーで、測定位置が移動可能（大きなサンプルの特定の位置へ移動可能）。 XY高分解能（高画素190万画素以上）でコネクタホールなどの小さな構造物も測定することが可能（自動マスク処理可能）です。 【その他各オプションの特徴】 ・DFP2…実装品（段差、はんだボール、凹凸等）の測定が可能 ・DIC2.0…ひずみ（伸縮等）の測定が可能 ・SRT…－55℃～300℃まで加熱／冷却が可能 ・実装（リフロー）での両面挙動可視化が可能 【仕様】 ○取り付け可能機種 – AXP ○最大FOV（視野角）– 100mm x 100mm ○最大設置可能サンプル – 400mm x 400mm 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他計測・記録・測定器

様々な金属の酸化膜や金属膜が「簡単に」・「短時間で」測定可能 ‼【 連続電気化学還元法】を用いた高性能な膜厚測定装置のご紹介！

株式会社サーマプレシジョンは、プリント基板を始めとして、半導体・ＬＣＤ・ＰＤＰ等主要電子部品の製造装置、検査分析装置の販売を通して日本国内の電子部品メーカー様へ最先端の技術を提供しております。 【酸化膜・金属膜厚測定機について】 PC-M1は連続電気化学還元法を用いて薄膜酸化膜厚、薄膜金属膜厚が容易に測定できる装置です。 【酸化膜測定可能金属】 [酸化膜測定について] ○銅：Cu2O　CuO　Cu2S ○錫：SnO　SnO2 ○銀：Ag2O　AgCl　Ag2SO4　Ag2S 〇上記以外（アルミ等々）についてはご相談ください 　各種Å（オングストローム）単位で測定します 【他分析器との比較】　PC-M1　　他分析器 測定時間　　　　　　　数百秒　　　数時間 酸化膜種類の判別　　　可能　　　　困難 金属間化合物の測定　　可能　　　　困難 設備費用　　　　　　　千万位内　　数千～億 取り扱いやすさ　　　　容易　　　　困難 最小測定面積　　　　　mm²　　　　μｍ² 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他

シャドウモアレ測定による加熱時の基板の反り具合を測定！　◆反りデータを1ポイント約2秒で取得！　◆0.5ミクロンの分解能を実現！

TherMoire AXP３.0 はシャドウモアレ計測技術を利用し多彩なオプションモジュールによる表面解析が可能です。 ユーザー指定温度プロファイル環境における、サンプルの表面形状を可視化します。 加熱時反り測定はもちろん マイナス温度環境下での表面挙動解析、CTE値算出も可能となオプション機能も選択可能です。 また上下加熱のため温度均一性も高いものとなっております。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他計測・記録・測定器

様々なポイントで自動化可能！　銅の膜厚を瞬時に測定可能・高度な統計処理で生産効率UPの可能性がここにある！

銅めっき膜厚の全数検査、全自動測定はいかがですか？ ハンディタイプ銅めっき膜厚測定機 「キャビダーム」は、めっき工程、最終検査工程、入荷検査など、様々なポイントで自動化が可能です。 【特徴】 ○測定は、瞬時に行われる ○専用プローブは基板にキズを付けることはない ○PCへＵＳＢケーブルを接続し高度な統計処理を行うことが可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 膜厚計

切粉除去のあたりまえを変える 方法が変われば、未来が変わるポンプ圧は0.3MPaのままで、十分に切粉除去が可能になるとしたら…切粉を除去するために“高圧ポンプに変える“これまでのその常識が今日、ここで変わる!上げるのはポンプ圧じゃない、付加価値だー。 Aeroforceが実現したのは、“低圧ポンプのままで、しっかり届く”という、新しいクーラント供給の“あり方”。 高圧に頼らずとも、 “スマートなクーラント技術”で、新たな工作機械の可能性を引き出すことができるのです。真に対策すべきは、圧力ではなく、クーラント力の改善。ポンプ圧を上げるのではなく、価値を上げる、それが、Aeroforceの答えです。 Aeroforce × FXコーティングエンドミル Aeroforce × NCヘリックスドリル ************************** MECT2025来場者限定特定プレゼント詳細はこちらをご覧ください。 https://mono.ipros.com/product/detail/2001548815/ **************************

最新の発表論文に Abby をご利用頂きました 熊本大学大学院 先端科学研究部分析化学研究室 （兼株式会社StapleBio 共同創業者） 勝田 陽介准教授 に発表をいただく、オンラインセミナーとなります。 Staple 核酸と名付けた短鎖核酸を利用して標的 mRNA の高次構造を変化させ、さらに遺 伝子発現制御を目指す RNA hacking 技術開発の取り組んでおられます。本技術の開発 における細胞実験、および動物実験の結果を中心に最新のデータ紹介をいただきます。 講演内容に関する論文： Staple oligomers induce a stable RNA G-quadruplex structure for protein translation inhibition in therapeutics | Nature Biomedical Engineering

『安いから』という理由で安易にACアダプタを採用していませんか？ ACアダプタには感電や発煙発火に繋がるリスクが内在し、廉価品を選ぶことによる設計不良等の発火事故が発生しています。 感電や発煙発火の事故が発生してしまうと、事後処理やリコール対応等、多大なるコストが発生してしまうことに加え、ブランドイメージの低下にもつながり経営に大打撃を与えてしまうため、採用段階で不具合リスクを潰しこむ必要があります。 本ウェビナーでは過去数十年にわたり弊社が経験してきたACアダプタの市場故障解析事例をご紹介することで採用評価時の着眼点としてご活用いただくことを主眼としております。 可能な限り簡単に分かりやすい内容で説明しておりますのでACアダプタの前知識のない方もお気軽にご聴講いただけますと幸いです。

[講　師] 株式会社GenesisAI 代表取締役社長／CEO 北陸先端科学技術大学院大学 客員教授 今井 翔太 氏 [重点講義内容] 生成AIはおそらく人類史上最大の技術革命である。2025年現在の生成AIは、博士号取得者並の知識を備え、物理法則を考慮した動画像生成も可能である。また、従来はコンテンツ生成が中心だった生成AIは、長大で複雑な作業ができるAIエージェントに発展し、調査やソフトウェア開発、科学研究の自動化も可能となっている。生産性向上による大きな経済効果の一方で「AIに仕事を奪われる」懸念が現実的になっている。 本講演では、2025年時点での研究をベースに、これらのAI技術の発展の見通しと社会への影響を解説する。 [講演項目] １．生成AIの最新研究 ２．AIエージェントの最新研究 ３．Physical AIと世界モデル ４．スケーリング則に基づく今後のAI発展の展望 ５．科学研究のためのAI ６．AIと労働 ７．質疑応答／名刺交換

[重点講義内容] 一．NTT版LLM「tsuzumi2」の研究開発 NTT 株式会社 人間情報研究所 思考処理研究プロジェクト グループリーダ 齋藤 邦子 氏 １．「tsuzumi2」開発の狙い ２．「tsuzumi2」進化のポイント ３．「tsuzumi2」活用イメージのご紹介 ４．質疑応答／名刺交換 二．NTT版LLM「tsuzumi2」のビジネス動向 研究開発マーケティング本部 マーケティング部門 R&Dマーケティング担当 担当部長 工藤 伊知郎 氏 １．市場動向、NTTのAIビジネスへの取組み ２．「tsuzumi2」の活用領域・利用用途 ３．「tsuzumi2」のパートナーとの取組み ４．実際に活用していく上でのポイント ５．質疑応答／名刺交換