イオンソースを使用し、加工対象物にイオンビーム照射をし、ドライエッチングを行うイオンビームエッチング装置です。
小型イオンビームエッチング装置は、DCイオンソースを使用し、基板回転冷却シングルステージを搭載したイオンビームエッチング（IBE）装置です。 微細加工、金属及び磁性体材料もエッチング可能です。 【特長】 ○Au, Pt, 磁性材等を容易にエッチング ○テーパー加工が容易 ○基板表面温度 ８０℃以下での処理が可能 ○有毒ガスを使用しないため、排ガス処理不要 ○エンドポイントディテクター搭載可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【装置仕様概略】 ○エッチング用イオンソース →DC 11cm ION SOURCE →SOLUS POWER SUPPLY ○真空チャンバー →到達圧力：6.0×10-5Pa台 →動作圧力：3.0×10-2Pa台 ○シングルステージ →水冷機構 →3軸動作 自転・入射角度・円弧移動 →不定形基板～Max 6inchまで選択可能 ○排気系 →主排気：TMP または Cryo-pump →粗挽き：ドライポンプ または ロータリーポンプ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
当社は1988年に真空薄膜製造装置の海外輸出商社としてスタートし、今日まで「真空技術のトータルプランナー」として、業容を拡大してまいりました。 この間、光学薄膜材料への展開、さらにはイオンビームプロセスや冷凍機(サップコールド)の販売に力点を置き活動をしてまいりました。 また、新たに次世代のナノ加工分野の重要な技術として期待されている、GCIB（ガスクラスターイオンビーム）プロセス装置を開発し、市場に投入する事になりました。 眼鏡やカメラレンズからスタートして、いまではデジタルカメラや携帯電話、医療用レンズを始め、光関連産業では新しい媒体が続々と生まれています。