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混合ガス発生装置及び溶接機 サンウェルダーSW-134/136

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最終更新日:2024年10月02日

サンウェル株式会社
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「水素と酸素ガス」を本機内のゼネレータータンクにて発生させる装置です。

水素酸素混合ガス発生装置及び溶接機 サンウェルダーSW-134/136は、自己ガス発生型の装置であり、高圧ボンベのガスは一切必要としません、またゼネレタータンク内において造られたガスは、発生した微圧力のままトーチ炎として使用するため高圧ガス保安法の適用を受けない、安全性に優れた誰にでも容易に取扱いができ、安心して使用できる装置です。 水と電気により造られる混合ガスは、常に成分比は安定し、環境にも優しく、かつ装置も長寿命でランニングコストも安く経済性に優れた発生装置です。 【特徴】 ○ススの出ないクリーンで幅の狭い、  直進性に優れた精密で安定した高温炎(約3,000℃) ○独自のエバポレーター液中をバブリングすることにより、  高還元炎(約900℃から2,300℃)も安定して得られる ○水を燃料にした経済性・精密性・安全性に優れたクリーンなエネルギー 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

    ガス発生装置
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混合ガス発生装置及び溶接機 サンウェルダーSW-134/136

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  • 関連リンク - http://www.sunwell.co.jp/products.html
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/sunwell/product/

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基本情報

【仕様】 [SW-134] ○電源AC AC100V±5% ・12A ○最大ガス発生量 170リットル/毎時 ○推奨使用チップ #18~#25 ○タンク内電解液量 3 リットル ○燃料(蒸留)水消費量 約 0.5 リットル /8時間 ○最高火炎温度 約 3,000℃ ○還元剤使用時火炎温度 約 900℃~2,300℃ ○圧力制御方式 圧力センサーによる 1 次側スイッチ式 ○圧力設定方式 アナログ (可変抵抗)式 ○圧力設定範囲 0 ~ 30 Kpa (無段階) ○標準設定圧力 15 Kpa ○使用可能トーチ バルブ付ハンドトーチ ・ 装置用トーチ(電磁バルブ付) ○連続運転可能時間 無給水で8時間 ○装置重量(約) 40 kg ○寸法(ケース)WxHxD 400 x 300 x 250 mm ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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用途/実績例

【用途】 ○半導体、電子部品等のUV印刷前の脱脂処理(バーニング) ○半導体の金線素子の切断(ボール・ボンディング) ○モーター等、リード線とマグネットワイヤーの結線溶接 ○内視鏡等、医療処置器具の銀ろう付け、及び熱処理 ○各種コイル、ハーネス、基板等の端子のはんだ付け ○熱電対、ヒューズ、精密小物部品等のはんだ付け、ろう付け ○アクリル樹脂、石英ガラス、石材製品の表面処理 ○樹脂成型品の端面バリ処理、塗装前の表面改質、脱脂処理 ○ガラス管の封止、切断、脱脂処理 ○エナメル線の絶縁皮膜の剥離処理 ○宝飾貴金属のろう付け、溶解、熱処理 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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可搬型のスタンダードモデル2機種『SW-134、SW-136』

可搬型のスタンダードモデル2機種『SW-134、SW-136』

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 サンウェル株式会社は、水素酸素ガス発生装置メーカーとして、1983年の創業以来、累計台数3,800台以上の実績があり、製造現場や研究機関をはじめ、数多くのユーザーから高い評価を頂いております。  当社の主力製品である"サンウェルダー"は、水と電気を利用して安定的に、水素酸素ガスを生成し、極小炎かつ高温の燃焼炎を創り出す、先進的な水素酸素ガス溶接機です。  サンウェルダーは、その高精度な燃焼炎を活かし、金属、樹脂、ガラス、貴金属など、さまざまな素材の精密加工に対応します。  特に、金属溶接では酸化を防ぎ、精密な接合を実現。半導体や電子機器の製造現場では、微細な部分加熱やフレーム処理に活用されています。  また、クリーンルーム環境下でも安定した作業が可能で、医療機器や高精度製品の製造においても高い信頼性を誇ります。  さらに、極小炎かつ最大約2800℃の高温で燃焼する水素酸素ガスの特性を活かし、ガラスや樹脂、貴金属の溶接や熱処理においても卓越した性能を発揮します。  そして、還元性の高い水素酸素ガスが、貴金属やガラスの精密加工をより高品質な仕上がりに導きます。

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