駆動機構の部品数削減！半導体製造装置用に開発した高真空ゲートバルブ
300mm 半導体製造装置用ゲートバルブをあらたに開発致しました。 カム方式による one-action valveの機構を採用し、コンパクト化、メンテナンス性向上、及び低価格化を実現しました。 高速駆動対応により、タクトタイム短縮が可能です。 【特徴】 ○無摺動機構の採用で装置内をクリーンな状態に保持 ○弁板シール部は独自の溝形状により、メタルコンタクトの防止など クリティカルなアプリケーション下でも安定したシール性を確保 ○実績豊富なカム方式による駆動方法で、安定したシール性能を確保 ○長寿命に対応した品質と信頼性を確保 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 ○使用圧力範囲：大気圧～1×10^-6 Pa ○ヘリウムリーク量 本体：1×10^-10 Pa・m3/s以下 弁板：1×10^-10 Pa・m3/s以下 ○対応差圧力：正圧、同圧、逆圧 ○メンテナンスサイクル：1×10^6 回（弁板 O-Ringは除く） ○材質（弁箱、弁板）：SUS又はA5052 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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真空ベローズの入江工研 「高次元で気密する、伸縮の達人」 The master of expansion and contraction at a higher level of airtightness