ガス流れや薄膜生成のシミュレーションに。大規模形状でも短時間計算
当社では、半導体関連装置向けに特化した解析ソフトを取扱っています。 希薄流体解析ソフト、プラズマ解析ソフトをラインアップし、 有機ELやマグネトロンスパッタのシミュレーションに活躍。 お客様のニーズに合わせた対応も可能です。 【ラインナップ】 《希薄流体解析ソフト『DSMC-Neutrals』》 ■非構造メッシュに対応しているため、複雑な形状の計算に対応 ■装置内全体のガス流れのシミュレーションが可能 《プラズマ解析ソフト『Particle-PLUS』》 ■低圧のプラズマシミュレーションが可能 ■プラズマを用いた装置・材料・デバイス研究・開発・製造などに この2つのシステムで、半導体製造における薄膜生成、スパッタリング、 プラズマエッチングなどの様々なシミュレーションに対応可能です。 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
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基本情報
【その他の特長】 ■粒子法を用いた希薄流体シミュレーションソフトウェアで、 真空チャンバーを用いる実験や装置開発に有用 ■CVDのような化学反応を含む成膜のシミュレーションが可能 ■非構造メッシュを採用しているため、実際の装置の形状そのままを 計算することが可能 ■高い並列効率から、大規模形状でも短時間で計算結果が得られます ■粒子法を採用しているため流体モデルと異なり、 品質の悪い計算格子が有っても、必ず収束解を得られます ■充実した技術サポートにより、シミュレーションが初めての方や 実験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな計算結果を出力◆ ・化学反応の計算 ・アレニウス形式の反応データから化学反応を計算 ・解離・再結合・分子（原子）交換反応計算 ・GUI上で、複数の反応式を設定も可能 ・成膜速度分布 ・電子とイオンの密度分布 ・ラジカルと励起種の発生分布 ・イオンフラックス分布 ・エロージョン速度分布 など ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格情報
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価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
~ 1週間
用途／実績例
◆有機EL ( OLED ) シミュレーション ※有機ELシミュレーションにおける成膜速度の均一性、形状の最適化、成膜分布の有機材料温度依存性など ◆分子線エピタキシー ( MBE ) シミュレーション ※分子線エピタキシーシミュレーションにおける分子線セル形状、成膜分布の均一性、濃度分布の最適化など ◆シャワーヘッド型 CVD ( 化学気相成長 ) ※成膜速度の評価 ※膜の均一性の評価 ※気相中の膜成長に影響を及ぼすラジカルの分布 ※基板表面の濃度分布 ※シャワーヘッド部分からチャンバー内へ流入するガス流速や流量の評価 ◆真空ポンプの排気シミュレーション ※コンダクタンスの温度・断面積依存性、ガス溜まり・脱ガスの影響など ◆マクロパーティクル ( ダスト ) の挙動 ※チャンバー内におけるマクロパーティクルの影響など ◆極超音速希薄流 ※物体周りの密度・温度分布、化学反応の影響など ◆衝撃波 ◆ベナール対流 ◆チャンバー内のダストの挙動 ※重力を考慮する必要があるダストの，膜への影響
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この製品に関するニュース（1）
企業情報
当社は、各種プラント、工場等の設備・資産を管理・運営するための「設備保全 管理システム」を開発・販売しています。 現在、このシステムは、センサー情報やタブレット端末からの入力情報等のIoT 技術および機械学習等のAI技術を利用した故障予知機能や自動スケジューリング機能を有するシステムへと大きく進化する 過程にあります。 また、最近のDXの流れの一環で、工場の製造プロセスおよび研究開発の現場での デジタル化・自動化を行い現場の作業を効率化しようという流れが強まっています。 当社もこの流れの中で、研究開発の現場の効率化を目指すソルーションであるラ ボ管理システムLIMS（Laboratory Information Management System、ワークフローとデータ追跡・データ管理・データ分析・および電子実験ノート統合などの機能を備えた、ソフ トウェア）の提供をしています。
