小型・低価格・高精度・使い易さを追求して開発されたエリプソメーター
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性(屈折率など)を非接触・高精度に測定します。
レーザーエリプソメーター
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性(屈折率など)を非接触・高精度に測定します。
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性(屈折率など)を非接触・高精度に測定します。
レーザー光による偏光解析法を用いて、シリコンやガラス基板の光学特性や、基板上の薄膜の膜厚や光学特性(屈折率など)を非接触・高精度に測定します。
ご要望をお伺いし、最適なソリューションで対応させて頂きます。