SOIウェーハ在庫は常に1000種以上!在庫SOIウェーハは1枚から承ります
当社では、MEMS向けに特化した各種構造体をご提供いたします。 活性層の厚さ公差は±0.1µmを達成しております。 SOIウェーハ製造技術の技術移転サービスも行っております。
当社では、MEMS向けに特化した各種構造体をご提供いたします。 活性層の厚さ公差は±0.1µmを達成しております。 SOIウェーハ製造技術の技術移転サービスも行っております。

【仕様】 ■活性層:0.1μm~200μm ■埋め込み酸化膜:~4μm程度 ■支持基板:100μm~(ウェーハサイズによる)
MEMS用途 シリコンフォトニクス
当社は、半導体シリコンウェーハおよびファブレスにてウェーハファンドリサービスを事業としております。 米国•ヨーロッパ•アジアの半導体各種プロセス工場をアウトソーシングし、様々なシリコンウェーハプロセスを提供いたします。 ご要望の際はお気軽にお問合せください。